牟晓东
- 作品数：19 被引量：12H指数：2
- 供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金辽宁省教育厅高等学校科学研究项目辽宁省教育厅资助项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术文化科学机械工程更多>>
- 一种交叉场放电共振耦合的控制方法
- 本发明公开了一种交叉场放电共振耦合的控制方法，属于电工工程技术领域。采用在交叉场放电离子源中由电场和磁场互相正交形成封闭或开放的交叉场空间的电场、磁场结构，磁控靶表面电场和磁场相互正交构成磁阱结构；磁控靶和与之平行的偏压...
- 牟宗信贾莉牟晓东王春刘升光
- 文献传递
- 非平衡磁控溅射双势阱静电波动及其共振耦合
- 2010年
- 非平衡磁控靶表面电场和磁场相互正交构成磁阱结构,磁控靶和与之平行的偏压基片之间形成了另一种势阱结构,等离子体静电波动在这两种势阱结构中形成耦合共振.采用Langmuir探针研究等离子体中参数和浮置电位信号的功率谱密度.典型放电条件下两种势阱结构中的本征频率分别约为30—50kHz和10—20kHz,两种势阱条件下根据声驻波共振模式计算的电子温度数值与实验结果相符合。
- 牟宗信牟晓东贾莉王春董闯
- 关键词：等离子体磁控溅射驻波
- 中频脉冲磁控溅射沉积氮化铝薄膜及性能研究
- 氮化铝薄膜在力学、光学、声学等领域有着广泛的应用前景.研究沉积条件对氮化铝薄膜的结构、性能的影响具有重要意义. 采用纯铝溅射靶、在不同的N2流量比率条件下,采用中频脉冲磁控溅射在Si(001)衬底上制备出氮化铝薄膜.利用...
- 牟宗信刘升光王振伟公发权贾莉牟晓东
- 关键词：氮化铝薄膜磁控溅射微观结构表面形貌折射率
- 文献传递
- 中频孪生脉冲磁控溅射反应沉积薄膜的反应气体影响
- 采用中频孪生磁控溅射沉积金属薄膜、氧化物薄膜和氮化物薄膜,固定放电的气压,研究在沉积过程中控制反应气体的比例对放电电压和电流参数的影响。研究发现放电电压和放电电流明显受到反应气体比例的影响,随反应气体比例的增加放电的电压...
- 牟宗信牟晓东贾莉刘升光董闯
- 文献传递
- 一种交叉场放电的控制方法
- 本发明公开了一种交叉场放电的控制方法，属于电工工程技术领域。通过控制交叉场中的磁场强度、磁场空间分布以及磁场特性和电源电压、放电气压和气体成分互相匹配来调整放电中的各种磁效应，调整放电状态为稳定放电或者等离子体磁流体行驻...
- 牟宗信赵德有贾莉牟晓东刘升光
- 文献传递
- 高功率脉冲非平衡磁控溅射法制备CrNx膜和Cu膜及其沉积特性的研究
- 高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)技术由于具有溅射粒子离化率高,等离子体密度高,功率密度可到达几个kW/cm2,离子电流可到达几个A/cm2,并具有溅射粒子能量大等特点,可以沉积致密、高性能薄膜,对薄膜的制备和改性具有良好...
- 牟晓东
- 关键词：CRNX薄膜
- 文献传递
- 中频磁控溅射制备锰铜传感器用合金薄膜的工艺被引量：2
- 2014年
- 利用镀膜技术制作锰铜传感器,可以实现传感器的超薄化,提高传感器的灵敏度和线性度。改变溅射功率参数,采用中频磁控溅射技术在玻璃(SiO2)衬底上制备出一系列锰铜镍合金薄膜,重点研究沉积条件对薄膜式锰铜传感器薄膜结构、表面形貌等性能的影响。采用三维形貌仪测试薄膜厚度和计算沉积速率;采用原子力显微镜(AFM)研究薄膜的表面特征;采用X射线衍射(XRD)分析了热处理前后薄膜的微观结构;并采用直读光谱仪(DRS)测试溅射靶材和薄膜的成分。研究结果表明:沉积速率随溅射功率增加而增加,溅射功率达到1 kW后沉积速率保持在100 nm·min-1;溅射功率也会明显的影响薄膜的表面形貌,薄膜的表面粗糙度RMS随溅射功率的增加而减小;XRD分析结果表明溅射功率对薄膜的微观结构影响不大,样品的微观结构在热处理前后没有显著变化,只是热处理后样品观察到了微弱的Mn微观结构取向;溅射功率变化对薄膜的成分影响较小,不同功率沉积的薄膜样品的成分相近。
- 张延松牟宗信吴敏丁昂牟晓东钱坤明
- 关键词：锰铜合金溅射功率磁控溅射
- 高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能的研究
- 高功率脉冲磁控溅射技术（HPPMS）由于具有溅射粒子离化率高,可以沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术已经在国外广泛研究。本文采用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术（HPPUMS）制备了一系列CrN薄膜,采用原子力显微镜（AF...
- 牟晓东牟宗信王春臧海荣刘冰冰董闯
- 关键词：气相沉积脉冲功率
- 文献传递
- 中频孪生靶非平衡磁控溅射制备氮化硅薄膜及其性能(英文)被引量：2
- 2011年
- 本文采用中频孪生靶非平衡磁控溅射技术在不同氮气流量比例的条件下制备出氮化硅薄膜。利用傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、椭偏仪等研究了氮气流量比率对氮化硅薄膜的微观结构、表面形貌、沉积速率、折射率的影响。结果表明:中频孪生非平衡磁控溅射技术制备的薄膜为非晶态氮化硅。随着氮气流量比率的增加,Si-N键红外光谱吸收带向低波数漂移,薄膜的沉积速率降低,表面结构更为光滑致密,氮化硅薄膜的折射率降低。薄膜的硬度和杨氏模量分别达到22和220GPa左右。
- 王春牟宗信刘冰冰臧海荣牟晓东
- 关键词：氮化硅薄膜折射率磁控溅射红外光谱
- 氧化铝薄膜的中频脉冲直流磁控溅射沉积和反应毒化现象分析
- 氧化铝薄膜在力学、光学等领域有着广泛的应用前景,研究其沉积条件对氧化铝薄膜结构特性的影响具有重要的意义。本文采用中频脉冲直流磁控溅射方法在Si(100)衬底上制备出氧化铝薄膜,采用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜、可见...
- 牟宗信王振伟牟晓东刘升光
- 关键词：氧化铝形貌微观结构折射率
- 文献传递
