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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

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  • 1篇电子电信

主题

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  • 1篇发光
  • 1篇本征
  • 1篇本征缺陷

机构

  • 1篇西安理工大学
  • 1篇西安交通大学

作者

  • 1篇陈光德
  • 1篇谷力
  • 1篇吕惠民
  • 1篇孙帅涛
  • 1篇耶红刚
  • 1篇郭金仓
  • 1篇颜国君

传媒

  • 1篇光子学报

年份

  • 1篇2008
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
六方氮化铝纳米线本征缺陷和氧杂质的光致发光谱研究(英文)被引量:2
2008年
利用AlCl3和NaN3直接反应合成出六方结构氮化铝纳米线.变温光致发光谱显示,在可见光范围内有两个半高宽大约为5nm的尖锐辐射峰,中心波长分别位于413nm和422nm处.同时,在近紫外区还有一个较宽的辐射带,随着温度升高,该辐射峰发生了明显的红移现象,其中心波长随温度线性变化.理论和实验分析表明,413nm辐射与AlN本身性质无关,而422nm辐射峰是与A1有关的两种本征缺陷所致.
吕惠民陈光德耶红刚颜国君谷力郭金仓孙帅涛
关键词:光致发光谱本征缺陷
共1页<1>
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