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闻伟

作品数：3 被引量：8H指数：1
供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术理学电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇铁电
  • 2篇图形化
  • 1篇电光
  • 1篇电扫
  • 1篇电扫描
  • 1篇性能研究
  • 1篇移相器
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇钛酸铅
  • 1篇锆钛酸铅
  • 1篇锆钛酸铅镧
  • 1篇刻蚀
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能
  • 1篇PLZT
  • 1篇ITO

机构

  • 3篇电子科技大学

作者

  • 3篇闻伟
  • 2篇张继华
  • 2篇杨传仁
  • 2篇陈宏伟
  • 1篇张瑞婷
  • 1篇莫尚军
  • 1篇梁鸿秋

传媒

  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2008
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
石英基片上(110)取向PLZT薄膜及其光学性能研究
2011年
在低成本的石英玻璃衬底上制备高性能电光薄膜非常有吸引力。本文采用溅射方法,并结合Pb3O4气氛退火工艺,在ITO/石英玻璃衬底上制备锆钛酸铅镧(PLZT 8/65/35)薄膜。结果表明:在优化工艺条件下,薄膜为(110)方向择优生长,表面均方根粗糙度为3.1nm,可见光范围内透过率为81.3%,消光系数为0.003。这种表面光滑和高光学性能的PLZT薄膜在集成光学和光电子器件具有重要的应用潜力。
张继华莫尚军闻伟陈宏伟杨传仁
关键词：铁电光学性能
电光移相器阵列用铁电薄膜研究
利用光学相控阵实现电扫描技术在军用雷达方面具有重要的应用前景，其基本构成单元是电光移相器。采用具有电光效应、响应速度快、热稳定性高、耐强激光的高性能铁电薄膜锆钛酸铅镧(PLZT)和钛酸锶钡(BST)制作电光移相器是实现电...
闻伟
关键词：溅射法
ITO/PLZT薄膜湿法刻蚀研究被引量：8
2008年
介绍了一种锆钛酸铅镧(PLZT)基铟锡氧化物(ITO)薄膜的湿法刻蚀法。用V(HCl)∶V(HNO3)∶V(H2O)=50∶3∶50的混合溶液对ITO进行不同温度的刻蚀试验。通过扫描电子显微镜(SEM)和X-射线能谱仪(EDS)分析表明,在35℃经30 nm/min刻蚀能得到图形边缘质量良好和表面无残留物的ITO图形;在同等条件下刻蚀的PLZT薄膜,刻蚀速率不及ITO的2%,表明该刻蚀方法具有良好的选择性。
闻伟杨传仁张继华陈宏伟梁鸿秋张瑞婷
关键词：湿法刻蚀图形化
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