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纳秒脉冲介质阻挡放电等离子体合成氨工艺条件优化: 2023年; 氨(NH3)作为重要的化工原料对农业及国计民生发展有直接影响。工业合成氨需高温高压、能耗高和污染重。低温等离子体技术是一种可持续,有潜力的合成氨途径,已成为国内外研究热点。本工作以氮气和氢气为原料,在低温常压下采用纳秒脉冲介质阻挡放电等离子体合成氨,通过单因素实验系统研究脉冲峰值电压、脉冲重复频率、气体总流量、N_(2)和H_(2)体积比(V(N_(2))∶V(H_(2)))等因素对合成氨速率及能量产率的影响规律。进一步通过正交实验评价确定影响合成氨反应速率因素的主次顺序为:脉冲峰值电压>脉冲重复频率>气体体积比>气体总流量。影响合成氨能量产率因素的主次顺序为:脉冲峰值电压>气体体积比>脉冲重复频率>气体总流量。结合两部分实验,最终得到合成氨的优选条件:脉冲峰值电压16 kV、脉冲重复频率6 kHz、脉冲上升沿100 ns、V(N_(2))∶V(H_(2))=1∶1、气体总流量200 mL/min。此时NH3合成速率最高为923.08μmol/h,能量产率为0.30 g/kWh。; 刘洋张海宝陈强; 关键词：合成氨等离子体介质阻挡放电正交实验法

介质阻挡放电等离子体催化合成氨协同效应研究: 氨气(NH)是现代社会最重要的化学物质之一。工业上采用Haber-Bosch法合成氨,反应条件苛刻,能耗高且伴随着大量温室气体的排放。非热等离子体技术为合成氨提供了一种有潜力的途径。此外,等离子体与催化剂结合,可以大幅度...; 刘洋; 关键词：合成氨等离子体介质阻挡放电催化剂

再探半坡神秘刻划符号被引量：1: 2015年; 学者以往对半坡神秘刻划符号的解读并不尽如人意。笔者为神秘符号总结出五大特征:左右对称、上下指向、叠加累级、单体合成繁复、简单象形。在游牧文化背景下审视符号,大体可划分为兵、王、巫、臣四个等级。陶器刻划符号的用意有三:计量军功、区分等级或家族祭祀礼器、显示身份的葬具。; 刘洋; 关键词：刻划符号游牧文化象形

低温等离子体合成氨研究进展被引量：4: 2021年; 氨是人们生产生活最重要的化工原料之一,但传统的合成氨过程需要在高温高压条件下进行,其年均能耗约占到世界能源总消耗的1%~2%。同时,由于其能量来自于化石燃料燃烧,此过程会不可避免地加重温室气体的排放。因此,寻找合适的绿色替代方案,在温和条件下实现高效、低能耗、低排放合成氨,成为该领域的研究热点。低温等离子体合成氨技术可以改善传统合成氨苛刻的反应条件,使反应在更温和的条件下进行,且具有原料廉价易得、不排放温室气体等优点,采用此技术合成氨越来越受到重视。本文综述了国内外低温等离子体合成氨技术近期取得的研究成果,包括等离子体源的选择、催化剂开发、反应器结构设计、放电参数优化、反应机理探索等。此外,基于该领域的研究现状,对低温等离子体合成氨发展方向进行了展望。; 刘洋张海宝陈强; 关键词：低温等离子体合成氨介质阻挡放电反应器催化剂

品红色柔印水墨低极性薄膜印刷适性研究: 2016年; 通过研究不同的研磨树脂、颜基比、分散剂等影响因素,制备出分散性最优的柔印水性墨;研究不同成膜树脂配制的油墨的印刷性能并对附着力、色密度、光泽度、表面张力等性能进行测试和分析,获得了印刷适性较优的水性柔印油墨。结果表明:选用研磨树脂96和分散剂750,在颜基比1.25∶1时分散性最佳;根据3种成膜树脂复配实验的结果,当成膜树脂813∶S-2916=63∶37时,研制出的油墨具有分散性好、附着力好、色密度高、光泽度高等性能。; 刘洋黄蓓青魏先福; 关键词：印刷性能

HiPIMS沉积光电薄膜研究进展:放电特性和参数调控: 2022年; 高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术具有离化率高、等离子体密度高、沉积温度低、薄膜结构致密等优点,与沉积超硬耐磨涂层相比,HiPIMS技术在光电薄膜沉积中的应用相对较少,且HiPIMS镀膜过程中涉及工艺参数较多,工艺参数的选择直接影响着沉积薄膜的结构和性能。基于这两个问题,系统梳理HiPIMS在光电薄膜沉积中放电的时空演变特性,重点介绍HiPIMS技术在光电薄膜沉积过程中的关键工艺参数,包括峰值功率密度、衬底材料、掺杂、偏置电压等,对薄膜结构和性能的影响规律,最后展望HiPIMS技术在光电薄膜沉积中的应用前景与发展趋势。; 张海宝刘洋陈强; 关键词：光电薄膜等离子体放电特性

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刘洋