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王树棠

作品数：2 被引量：13H指数：1
供职机构：西安工业学院更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇镀膜机
  • 1篇氧化物薄膜
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇真空镀膜机
  • 1篇冷阴极
  • 1篇离子
  • 1篇离子能量
  • 1篇离子源
  • 1篇辉光
  • 1篇辉光放电
  • 1篇工作气体
  • 1篇氟化镁

机构

  • 2篇西安工业学院

作者

  • 2篇严一心
  • 2篇卢进军
  • 2篇王树棠
  • 1篇刘卫国
  • 1篇刘卫国
  • 1篇夏慧琴
  • 1篇刘吉祥

传媒

  • 1篇西安工业大学...

年份

  • 1篇1990
  • 1篇1989
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
宽束冷阴极离子源
本实用新型是宽束冷阴极离子源，用于薄膜离子束辅助淀积的装置，其主要部件是冷阴极、阳极和一个以上多孔引出栅组成的放电室，放电室处于永磁体形成的磁场中，该离子源可安装于各类真空镀膜机中，具有离子束束流密度和离子能量调节范围大...
严一心夏慧琴卢进军王树棠刘吉祥刘卫国
文献传递
宽束冷阴极离子源及其应用被引量：13
1989年
本文介绍一种新研制的用于离子束辅助淀积薄膜的宽束冷阴积离子源,与目前国内外普遍采用的考夫曼(Kaufman)型热阴极离子源相比,它具有寿命长,无污染,结构简单,所需供电电源少,操作方便等优点。实验结果证明,用宽束冷阴极离子源进行离子束辅助淀积所得 Zns 膜层强度超过国标规定的10倍,G|AlSIO_x|A膜层强度超过国标规定的8倍。该离子源有广泛的应用前景。
严一心卢进军刘卫国刘吉祥王树棠
关键词：离子源辉光放电
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