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孙小龙

作品数:6 被引量:7H指数:2
供职机构:齐齐哈尔大学化学与化学工程学院更多>>
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相关领域:化学工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 5篇化学工程

主题

  • 4篇有机硅
  • 4篇有机硅表面活...
  • 3篇酰胺
  • 3篇酰胺基
  • 3篇甲基
  • 3篇甲基硅烷
  • 3篇硅烷
  • 3篇氨丙基
  • 3篇胺基
  • 3篇丙基
  • 2篇氧代
  • 2篇乙氧基
  • 2篇活性剂
  • 2篇表面活性
  • 2篇表面活性剂
  • 1篇丁酸
  • 1篇丁酸钠
  • 1篇性能研究
  • 1篇阴离子
  • 1篇阴离子型

机构

  • 6篇齐齐哈尔大学

作者

  • 6篇孙小龙
  • 4篇邢凤兰
  • 3篇王丽艳
  • 3篇王玉萍
  • 2篇徐群
  • 2篇李旭
  • 1篇李兴涛
  • 1篇王超

传媒

  • 3篇印染助剂
  • 1篇化学试剂

年份

  • 2篇2016
  • 4篇2015
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
氧代烷基酸为联接基有机硅表面活性剂及其制备方法
本发明涉及一种氧代烷基酸为联接基有机硅表面活性剂及其制备方法,其结构式如下所示。本发明的氧代烷基酸为联接基有机硅表面活性剂,具体合成方法包括γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷与酸酐的酰胺化反应,γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷-氧代烷...
邢凤兰孙小龙徐群王玉萍王丽艳
文献传递
含酰胺基阴离子型有机硅表面活性剂的合成及性能被引量:3
2015年
以六甲基二硅氧烷和γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷为原料、四甲基氢氧化铵·五水化合物为催化剂制得氨丙基三硅氧烷.氨丙基三硅氧烷与丁二酸酐反应得到4-(三硅氧烷-2-丙氨基)-4-氧代丁酸,较佳工艺条件为:n(氨丙基三硅氧烷)∶n(丁二酸酐)=1.0∶1.1,冰浴条件下反应2 h,室温条件下反应2 h.4-(三硅氧烷-2-丙氨基)-4-氧代丁酸与碳酸氢钠反应得到4-(三硅氧烷-2-丙氨基)-4-氧代丁酸钠.经1H-NMR和IR对产物进行结构表征并测定其表面性能.结果表明:目标产物临界胶束浓度cmc为1.99×10-3mol/L,γcmc为29.4 m N/m,对织物具有较好的柔软性.
邢凤兰孙小龙李旭王超王平郎
阴离子有机硅双子表面活性剂的合成研究被引量:2
2016年
以γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷、六甲基二硅氧烷、丙烯酸甲酯、戊二酰氯为原料,经加成、酰胺化和水解反应合成了有机硅双子表面活性剂。考察了n(中间体Ⅱ)∶n(戊二酰氯)、反应时间和反应温度对中间体Ⅲ收率的影响。结果表明,较佳工艺条件为:n(中间体Ⅱ)∶n(戊二酰氯)=2.1∶1.0,反应时间6 h,反应温度35℃,中间体Ⅲ收率83.29%。25℃时,有机硅双子表面活性剂的表面张力为26.94 m N/m,临界胶束浓度为5.0×10-4mol/L,起泡性能较低。
邢凤兰王玉萍孙小龙王丽艳
关键词:双子表面活性剂丙烯酸甲酯
含酰胺基有机硅表面活性剂的合成和性能研究
本研究以具有伯胺的硅氧烷类化合物为原料,以丁二酸酐、马来酸酐和邻苯二甲酸酐为酰化试剂,再与Na2CO3反应,制得一系列疏水基是硅氧烷,连接基是酰胺键,亲水基是羧酸钠的新型含酰胺基的有机硅表面活性剂。反应过程为伯胺与酸酐的...
孙小龙
关键词:有机硅表面活性剂
文献传递
含酰胺基有机硅表面活性剂的合成及性能被引量:4
2016年
以γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷、六甲基二硅氧烷、NA-酸酐、碳酸钠为原料,经3步得到阴离子有机硅表面活性剂。用单因素法考察了投料比、冰浴搅拌0.5 h后继续反应时间和温度对中间体Ⅱ收率的影响。经1HNMR和IR对产物进行结构表征,测定目标产物表面张力、临界胶束浓度和润湿性能。在25℃时,阴离子有机硅表面活性剂的表面张力为34.00mN/m,临界胶束浓度为3.98×10^(-4)mol/L,润湿性能较好。
邢凤兰王玉萍李兴涛孙小龙王丽艳刘世夫
关键词:有机硅表面活性剂
新型羧酸盐三子表面活性剂的合成与性能
2015年
以癸酸、二氯亚砜和液溴为原料合成中间体α-溴代癸酸,再用α-溴代癸酸与1,1,1-三(羟甲基)乙烷经醚化反应后,与甲醇经酯化反应生成酯,最后酯通过水解合成新型的三子阴离子表面活性剂.利用IR、1HNMR和13CNMR对中间体进行了结构表征,利用IR对目标产物进行了结构表征.对三子表面活性剂的性能进行测定,结果表明,该三子表面活性剂的临界胶束浓度(cmc)为0.126mmol/L,表面张力(γcmc)为29.27 mN/m.
徐群李旭孙小龙王平郎
共1页<1>
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