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刘圣烈

作品数：57 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术自动化与计算机技术文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 57篇中文专利

领域

  • 6篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇文化科学

主题

  • 21篇液晶
  • 21篇液晶显示
  • 14篇掩模
  • 14篇TFT-LC...
  • 13篇液晶显示器
  • 13篇显示器
  • 12篇绝缘
  • 10篇导电薄膜
  • 10篇导体
  • 10篇电极
  • 10篇透明导电
  • 10篇透明导电薄膜
  • 10篇绝缘薄膜
  • 10篇灰化
  • 10篇基板
  • 10篇构图
  • 10篇半导体
  • 10篇半导体薄膜
  • 8篇掩模板
  • 8篇掩膜

机构

  • 57篇北京京东方光...

作者

  • 57篇刘圣烈
  • 30篇宋泳锡
  • 30篇崔承镇
  • 9篇崔莹石
  • 8篇薛建设
  • 8篇刘翔
  • 7篇董敏
  • 5篇柳在一
  • 2篇金原奭
  • 2篇郝昭慧
  • 2篇赵海玉

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 6篇2013
  • 6篇2012
  • 16篇2011
  • 16篇2010
  • 9篇2009
共 57 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
半色调掩模板及其制造方法
本发明涉及一种半色调掩模板及其制造方法，半色调掩模板包括基板，基板设有非透射区域、半透射区域和透射区域，非透射区域设置有第一掩模材料层，半透射区域设置有可调节透射率的第二掩模材料层，第一掩模材料层位于基板的一面，第二掩模...
刘圣烈崔莹石
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电致发光显示面板
本发明涉及一种电致发光显示面板，包括矩阵排列的像素，每个像素由红色亚像素、绿色亚像素和蓝色亚像素组成，所述蓝色亚像素至少包括每帧交替使用其中一个的第一蓝色子亚像素和第二蓝色子亚像素。本发明通过设置至少二个蓝色子亚像素交替...
崔莹石刘圣烈柳在一金度亨金原奭
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半色调掩模版及其制造方法
本发明涉及一种半色调掩模版及其制造方法，半色调掩模版包括：设有非透射区域、半透射区域和透射区域的基板和设置在基板非透射区域和半透射区域的掩模材料层，位于非透射区域的掩模材料层的厚度大于位于半透射区域的掩模材料层的厚度。半...
刘圣烈
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阵列基板及制造方法
本发明涉及一种阵列基板及制造方法，其中该阵列基板的制造方法包括：第一次掩模工艺，在玻璃基板上形成包含有栅线和栅电极的第一金属层；第二次掩模工艺，形成第一绝缘层，并且在第一绝缘层上面依次形成硅岛、用于形成断裂面的切面图案以...
崔承镇宋泳锡刘圣烈
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设置有气体墙的蚀刻基板
本发明涉及一种设置有气体墙的蚀刻基板，蚀刻基板设有中部区域和周边区域，蚀刻基板的周边区域设置至少一个通过喷射气体形成气体墙以控制干蚀刻装置内蚀刻气体与蚀刻基板接触密度的喷射装置。本发明蚀刻Al时开启喷射装置形成气体墙、蚀...
崔莹石刘圣烈
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阵列基板的结构及其制造方法
本发明的实施例公开了一种阵列基板的结构及其制作方法。涉及液晶显示器的制造工艺，解决了现有技术中采用四次光刻工艺制造阵列基板生产效率低的问题。本实施例中的阵列基板的结构主要包括像素电极图案和栅图案，所述栅图案包括栅极扫描线...
刘翔刘圣烈薛建设
干蚀刻装置
本发明涉及一种干蚀刻装置。该装置包括：腔室、架设在所述腔室底部的基台、进气器和抽气器，还包括：在所述腔室的侧面设有至少一个通过从所述基台的上方抽出所述腔室内的蚀刻气体以控制蚀刻气体与基板的接触密度的辅助抽气设备。本发明的...
刘圣烈崔承镇宋泳锡董敏
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FFS型TFT-LCD阵列基板及其制造方法
本发明公开了一种FFS型TFT-LCD阵列基板及其制造方法。该方法包括：步骤1：在透明基板上依次沉积第一透明导电薄膜、源漏金属薄膜及掺杂半导体薄膜，通过第一构图工艺形成包括源电极、漏电极、数据线和像素电极的图形；步骤2：...
宋泳锡刘圣烈崔承镇
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阵列基板及其制造方法、液晶显示器
本发明公开了一种阵列基板及其制造方法、液晶显示器。其中，方法包括在衬底基板上形成电极线图案和像素电极图案，沉积一导电层，并通过构图工艺形成电镀电极；通过电镀工艺在所述电镀电极上电镀形成由金属铜薄膜构成的所述电极线图案。本...
刘翔刘圣烈薛建设
TFT-LCD阵列基板及其制造方法
本发明公开了一种TFT-LCD阵列基板的制造方法，包括在透明基板上沉积第一透明导电薄膜及第一金属薄膜，对既定区域进行构图，形成包括栅线、栅电极、公共电极以及公共电极线的图形；沉积栅绝缘薄膜、半导体薄膜及掺杂半导体薄膜，对...
宋泳锡崔承镇刘圣烈
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