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吴超

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 3篇液晶
  • 3篇喷嘴
  • 2篇液晶显示
  • 2篇涂布
  • 2篇面板
  • 2篇光刻
  • 1篇液晶面板
  • 1篇液晶显示面板
  • 1篇液晶显示器
  • 1篇入口处
  • 1篇涂布材料
  • 1篇涂布技术
  • 1篇涂布装置
  • 1篇拧紧
  • 1篇喷管
  • 1篇清洁装置
  • 1篇狭缝
  • 1篇显示面板
  • 1篇显示器
  • 1篇基板

机构

  • 4篇北京京东方光...

作者

  • 4篇吴超
  • 3篇焦宇
  • 2篇刘杰
  • 2篇张学智
  • 1篇宋瑞涛
  • 1篇吴涛
  • 1篇王丽君

年份

  • 1篇2013
  • 3篇2011
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
涂布装置
本实用新型公开了一种涂布装置，包括有狭缝喷嘴，所述狭缝喷嘴由两个喷嘴分体固定连接而成，所述两个喷嘴分体中的至少一个设置有调整空腔、以及与所述狭缝喷嘴的狭缝平行设置的调整螺栓，所述调整螺栓穿过所述调整空腔、且至少一端露出所...
焦宇宋瑞涛吴超
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基板烘烤设备
本实用新型提供一种基板烘烤设备，属于烘烤技术领域，其可解决现有的基板烘烤设备易于造成基板损伤的问题。本实用新型的基板烘烤设备包括：用于沿与基板平行的方向输送基板的输送机构；至少一个用于加热位于所述输送机构上的所述基板的加...
刘杰焦宇吴超宋篷磊剧永波
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涂布喷嘴保护装置
本实用新型涉及一种保护其它设备的装置，尤其涉及一种涂布喷嘴保护装置，增强了涂布喷嘴的保护效果，涂布喷嘴保护装置包括执行单元和位于涂布喷嘴运动方向的前方的触头，触头单次运动探测区域的宽度与涂布喷嘴单次运动喷涂区域的宽度相匹...
剧永波张学智吴超刘杰
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光刻胶喷嘴清洁装置
本实用新型公开了一种光刻胶喷嘴清洁装置，涉及液晶显示器制造技术领域，为更好地清洁光刻胶喷嘴而设计。所述光刻胶喷嘴清洁装置，包括底座，所述底座中设有清洁液通道，所述清洁液通道的出口处设有清洁液喷管，所述清洁液喷管的端部设有...
王丽君张学智吴涛简月圆吴超焦宇
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