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王辉

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：北京京东方光电科技有限公司更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇中文专利

主题

  • 3篇喷嘴
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻胶
  • 2篇涂布
  • 2篇涂布装置
  • 2篇狭缝
  • 2篇保护模块
  • 1篇清洗剂
  • 1篇去除装置
  • 1篇基板
  • 1篇溅射

机构

  • 3篇北京京东方光...

作者

  • 3篇王辉
  • 2篇焦宇
  • 2篇宋瑞涛
  • 2篇刘杰
  • 2篇张学智
  • 2篇王江
  • 1篇姚庆阳
  • 1篇张琨鹏
  • 1篇李庆平

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2011
  • 1篇2009
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
边缘光刻胶去除装置
本实用新型涉及一种边缘光刻胶去除装置，包括固设在喷嘴主体上的第一喷嘴模块，所述第一喷嘴模块上设置有用于去除基板边缘光刻胶的第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴，所述第一清洗剂喷嘴和第一气体喷嘴分别连通有第一清洗剂供给口和第一气体...
王辉张琨鹏姚庆阳李庆平
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光刻胶涂布装置
本发明涉及一种光刻胶涂布装置，包括：包括光刻胶涂布装置本体，所述光刻胶涂布装置本体的喷嘴的外部罩设有用于将所述喷嘴与基板上的杂质隔离开的保护模块。所述喷嘴包括沿所述喷嘴运动方向相对设置的第一表面，所述保护模块包括两个第一...
焦宇张学智宋瑞涛王辉苏九端王江刘杰
光刻胶涂布装置
本发明涉及一种光刻胶涂布装置，包括：包括光刻胶涂布装置本体，所述光刻胶涂布装置本体的喷嘴的外部罩设有用于将所述喷嘴与基板上的杂质隔离开的保护模块。所述喷嘴包括沿所述喷嘴运动方向相对设置的第一表面，所述保护模块包括两个第一...
焦宇张学智宋瑞涛王辉苏九端王江刘杰
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