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文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 2篇化学工程

主题

  • 5篇金刚石薄膜
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 4篇光谱
  • 3篇热丝
  • 3篇热丝化学气相...
  • 3篇发射光谱
  • 2篇生长速率
  • 2篇光谱诊断
  • 1篇等离子体
  • 1篇低浓度
  • 1篇示踪气体
  • 1篇碳源
  • 1篇碳源浓度
  • 1篇气体
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积
  • 1篇氩气
  • 1篇金刚石
  • 1篇光谱法

机构

  • 5篇武汉工程大学
  • 1篇湖北省等离子...

作者

  • 5篇王传新
  • 5篇代凯
  • 4篇易成
  • 3篇马志斌
  • 3篇吴超
  • 2篇王升高
  • 1篇王涛
  • 1篇满卫东

传媒

  • 2篇金刚石与磨料...
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2015
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
约束式热丝CVD法制备金刚石的研究被引量:2
2018年
为提高热丝CVD法沉积金刚石薄膜的生长速率,以丙酮和氢气作为反应气源,利用自制的半封闭式空间约束装置,将热丝、衬底、反应气体聚集在狭小空间内,研究不同气体流速条件下的金刚石薄膜沉积情况;使用SEM和Raman光谱表征所合成的薄膜。结果表明:采用约束式沉积法可以显著提高沉积速率,本实验在230cm^3/min(标况)气体流速下获得最大沉积速率6.31μm/h,比未约束时增大了近一倍。随着气体流速增大,沉积速率先增大后减小;气体流速86~115cm^3/min(标况)时,晶粒尺寸为微米级;气体流速115~575cm^3/min(标况)时,晶粒尺寸减小至纳米级。Raman光谱检测显示:约束式沉积所得薄膜总体质量较好,但随气体流速增大而逐渐降低。
代凯王传新许青波王涛
关键词:热丝化学气相沉积金刚石薄膜生长速率
惰性气体对HFCVD沉积金刚石气相基团的影响被引量:3
2015年
发射光谱法是对等离子进行在线诊断的常用方法。在丙酮/H_2、丙酮/H_2/He和丙酮/H_2/Ar三种体系中,对热丝化学气相沉积金刚石薄膜过程中的等离子体进行了在线测量。研究了不同体积分数的惰性气体对等离子体中各活性基团强度的影响,以及CH,Hβ与C_2的相对强度的比值、电子温度的大小随惰性气体体积分数的变化关系。结果表明,各基团的强度随着惰性气体体积分数的增加呈现上升趋势,且加入同体积分数的氩气比加入氦气的影响更大;CH,Hβ与C_2的相对强度比值、电子温度随着惰性气体体积分数的增加而呈现下降趋势,且在丙酮/H_2/Ar体系中要比丙酮/H_2/He体系中小。
范咏志王传新易成代凯马志斌王升高吴超
关键词:热丝化学气相沉积惰性气体发射光谱金刚石薄膜
热丝CVD沉积金刚石薄膜时的等离子体空间分布研究
2016年
采用热丝化学气相沉积(chemical vapordeposition,CVD)的方法,以丙酮为碳源生长金刚石薄膜时,利用等离子体发射光谱对生长过程中的等离子体空间分布进行了在线诊断。采用SEM,Raman光谱分别对沉积金剐石膜表面、断面的形貌和质量进行表征。光谱分析表明,对于线性阵列布丝情况下,中心区域与边缘区域的基团分布存在差异,中心区温度高,裂解能力强,基团强度高于两边,但中心区域基团特征峰强度的变化比等离子球平缓的多;距离热丝越远,热辐射减小,从丙酮分子中裂解出CH和CO等基团以及由原子H激发的H_β与H_α等强度降低,反而使得复合生成的C2基团增加。SEM测试结果表明,当丝基间距为4.5,5.5,6.5 mm时,所沉积的金刚石薄膜表面由致密规则晶面向混乱转变,且单位时间内的生长速率也依次降低,此外,Raman光谱表明随着纵向间距的加大,金刚石薄膜的质量随之降低。这与诊断结果中CH和CO强度的降低,C_2基团强度增加及基团C_2/H_α比强度下降相吻合。
易成王传新范咏志代凯马志斌王升高满卫东吴超
关键词:金刚石薄膜发射光谱
不同碳源浓度下热丝CVD金刚石薄膜的惰性示踪气体发射光谱法研究
2017年
采用热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜,运用惰性示踪气体发射光谱法对等离子基团进行分析。实验所采用的惰性示踪气体为氩气。热丝CVD金刚石薄膜的表面形貌和断面形貌通过SEM进行表征,质量通过Raman光谱表征,从而对等离子体诊断结果进行验证。结果表明:保持其他工艺参数不变时,随碳源混合气体流量不断增加,电子温度总体呈下降趋势,但在50~70cm^3/min出现反常的先增加后下降,在60cm3/min附近时出现最大值,此时的带电粒子到达基片时具有最大通量和能量,与此同时,CO、C_2、CH等几种含碳基团浓度在60cm^3/min处出现最低,气相沉积过程向着金刚石薄膜沉积的方向发展,生长速率达到最大,金刚石薄膜的质量却随碳源混合气体流量的增加而降低。
范咏志王传新易成代凯许青波马志斌吴超
关键词:化学气相沉积金刚石薄膜光谱诊断
低浓度氩气对金刚石薄膜的影响及机理研究被引量:7
2017年
提高生长速率是降低金刚石薄膜应用成本的关键因素之一,目前研究的提高速率的方法中以偏压电子增强为主,而该方法不适宜表面复杂的刀具涂层。本文通过在无偏压热丝化学气相沉积沉积金刚石薄膜条件下添加少量的Ar,成功将生长速率提高3倍,并采用等离子发射光谱研究了其反应机制,尤其对反应系统电子温度的变化做出了详细推理分析。实验结果采用扫描电镜、Raman光谱进行表征。结果表明:氩气的添加不仅可促进二次成核,使得晶粒尺寸达到纳米级,而且一定量的氩气(8%~32%)可提高金刚石薄膜的生长速率,当氩气含量在8%~32%范围内时,金刚石薄膜的生长速率随氩气浓度增大而增大,本实验获得最高生长速率达3.75μm/h,是无Ar情况下的3倍。光谱诊断显示的主要基团为CO(283~370nm),CH(387.0 nm),H_β(486 nm),H_α(656.3 nm),氩气添加后这些基团的光谱强度均显著增强。当氩气含量为7%~30%时,电子温度与氩气浓度成正比,为金刚石薄膜的生长提供了更优越的条件,生长速率得到提高。
代凯王传新范咏志易成
关键词:热丝化学气相沉积金刚石薄膜生长速率光谱诊断
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