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南征
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中国科学院国际材料物理中心
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合作作者
朱警生
中国科学院国际材料物理中心
翁惠民
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中国科学院国际材料物理中心
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中国科学院国际材料物理中心
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半导体硅中近表面缺陷的慢正电子研究
南征
慢正电子探针研究离子注入硅(100)产生的缺陷及其退火行为
1994年
用慢正电子探针分别检测了P+注入和P注入Si(100)的两组样品。与基底样品相比较,注入样品中的缺陷导致了正电子湮没参数的显著变化。由湮没线形参数的变化拟合了两组样品注入损伤的深度分布、缺陷对正电子的捕获系数,讨论了P+和P注入损伤缺陷的差别和它们在退火过程中的不同行为。
韩荣典
周先意
翁惠民
朱警生
南征
虞旭东
秦敢
林成鲁
关键词:
离子注入
退火
硅
飞行时间法测量真空电子偶素产额研究低能离子溅射诱导的缺陷损伤
1994年
利用飞行时间谱直接测量了低能正电子与表面相互作用时的真空Ps产额.该方法比通常的峰法和峰-谷法准确、简单:利用该方法研究了Ar+溅射在Si(100)面上诱导的缺陷损伤及退火行为。
朱警生
麻茂生
刘先明
吴建新
周先意
徐纪华
南征
翁惠民
韩荣典
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溅射
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