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肖晟
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李国华
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1995
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硅二极菅脉冲中子辐照效应的研究
1995年
对加固P+nn+高压整流二极营进行了脉冲中子辐照和热中子辐照。DLTS测量表明,脉冲中子辐照(Φn=8.6×1013n/cm2)在硅中引入的缺陷主要是双空位E4和E3缺陷,氧空位和双空位缺陷强度很低。氧空位密度的降低可归因于辐照缺陷的衰减和再构。脉冲中子辐照引起Frenkel对成份的增加,增加的空位密度致使复杂络合物,例如(O十V2)或(O十V3)缺陷的有效产生。实验结果还表明,该类器件具有良好的耐辐照特性。文中还对退火特性进行了讨论。退火使氧空位和双空位E2增加,这可能是V2O、V3O分解所致。
吴凤美
施毅
杭德生
肖晟
赖启基
赵丽华
李国华
周荷秀
关键词:
脉冲中子
辐照效应
二极管
氧空位
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