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郑春雷

作品数:1 被引量:2H指数:1
供职机构:北京真空电子技术研究所更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇电镀
  • 1篇电镀工艺
  • 1篇因果
  • 1篇因果图
  • 1篇参数优化

机构

  • 1篇北京真空电子...
  • 1篇北京强度环境...

作者

  • 1篇刘明辉
  • 1篇刘义君
  • 1篇郑春雷
  • 1篇周洁

传媒

  • 1篇真空电子技术

年份

  • 1篇2016
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
基于田口试验设计的电镀工艺参数优化被引量:2
2016年
电镀膜层厚度是评估电镀质量的重要指标,其受多种因素的影响,由于实际情况的复杂性,导致这些影响因素与膜层厚度呈现出不确定的相关关系。针对这一现象,结合Minitab 17软件平台,本文给出了一种基于田口试验设计的电镀工艺参数优化方法。首先,通过因果图分析确定影响膜层厚度较大的可控因素。其次,利用田口试验设计方法,以最少的试验次数推导出各可控因素对膜层厚度的影响程度,得出控制因素的最佳水平组合。最后,将优化结果应用于两组试验,结果证明,在不增加成本的前提下,采用优化后的电镀工艺参数,可以提高电镀膜层厚度的合格率。
郭恒晖郑春雷刘义君周洁刘明辉庞月婵
关键词:电镀工艺因果图
共1页<1>
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