2025年2月12日
星期三
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许明坤
作品数:
6
被引量:0
H指数:0
供职机构:
南京大学
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发文基金:
国家自然科学基金
国家重点基础研究发展计划
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相关领域:
一般工业技术
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合作作者
李成栋
南京大学
余林蔚
南京大学
时荣荣
南京大学
王鸿祥
南京大学
于忠卫
南京大学
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气敏
1篇
气敏材料
机构
6篇
南京大学
作者
6篇
许明坤
5篇
余林蔚
5篇
李成栋
1篇
于忠卫
1篇
王鸿祥
1篇
时荣荣
年份
1篇
2018
3篇
2016
2篇
2015
共
6
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一种制备珠串形单晶硅纳米线的方法
本发明公开了一种制备平面珠串形单晶硅纳米线的方法,1)在平整的衬底上,在定位区域蒸镀In、Sn或Bi诱导金属膜,即为纳米线生长的初始位置;2)将上述衬底放入PECVD系统腔内,在温度200℃‑500℃,氢气等离子体处理样...
余林蔚
薛兆国
许明坤
李成栋
文献传递
一种制备高质量柔性单晶硅纳米线的方法
一种制备高质量柔性平面zigzag单晶硅纳米线的方法,1)、在平整的衬底上,利用光刻或其他图案选择定位技术,在选位区域蒸镀Sn或In等诱导金属膜,作为纳米线生长的初始位置;2)在PECVD系统中利用等离子体处理技术,在温...
余林蔚
薛兆国
许明坤
李成栋
文献传递
平面硅纳米线自定位生长及同质、异质外延调控
一维半导体硅纳米线具有独特的能带结构和光电响应特性,有望成为构建新一代微纳电子和光电器件的核心构件,在硅基逻辑、存储、光电转换和化学生物传感等领域具有十分重要的应用前景,并受到了广泛而深入的研究关注。相比于“自上而下”的...
许明坤
关键词:
电学性质
一种外延定向生长、转移和集成平面半导体纳米线的方法
外延定向生长、转移和集成平面半导体纳米线的方法,步骤如下:1)对晶体衬底处理,去掉表面氧化层;2)蒸镀In、Sn诱导金属膜,生长出金属膜图案,膜厚度在几个纳米到几十个纳米;3)在PECVD系统中利用等离子体处理技术,在温...
余林蔚
许明坤
薛兆国
王吉米
李成栋
文献传递
一种制备珠串形单晶硅纳米线的方法
本发明公开了一种制备平面珠串形单晶硅纳米线的方法,1)在平整的衬底上,在定位区域蒸镀In、Sn或Bi诱导金属膜,即为纳米线生长的初始位置;2)将上述衬底放入PECVD系统腔内,在温度200℃-500℃,氢气等离子体处理样...
余林蔚
薛兆国
许明坤
李成栋
文献传递
一种检测甲烷的PMMA-二氧化锡基薄膜气敏传感器
本发明公开了一种以甲烷为被测气体的PMMA-SnO2基薄膜气敏传感器,采用绝缘基底/PMMA-SnO2薄膜/电极结构,其中PMMA作为粘合剂,与带有SnO2量子点的有机溶剂混合形成旋涂液,通过旋涂形成PMMA-SnO2薄...
余林蔚
时荣荣
许明坤
于忠卫
钱晟一
薛兆国
李成栋
王鸿祥
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