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周良文
作品数:
1
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供职机构:
华中科技大学光学与电子信息学院武汉光电国家实验室
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发文基金:
国家自然科学基金
国家高技术研究发展计划
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相关领域:
化学工程
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合作作者
王小叶
华中科技大学光学与电子信息学院...
曾晓雁
华中科技大学光学与电子信息学院...
曹宇
华中科技大学光学与电子信息学院...
金曦
华中科技大学光学与电子信息学院...
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曾晓雁
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周良文
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高分子学报
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2009
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微笔直写成型聚酰亚胺图形工艺研究
2009年
选用均苯四甲酸二酐(PMDA)、4,4′-二氨基二苯醚(ODA)为单体,通过低温缩聚反应制备了PMDA-ODA型聚酰胺酸溶液,通过调节其黏度特性使之适合于微笔直写沉积工艺.采用微笔直写沉积PAA溶液和热亚胺化处理两步法制作出PI图形,并通过Au/PI微桥阵列结构实例显示了该工艺在MEMS聚合物牺牲层或结构层制造领域的应用潜力.
曹宇
王小叶
周良文
金曦
曾晓雁
关键词:
聚酰胺酸
聚酰亚胺
微机电系统
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