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林亮

作品数:7 被引量:2H指数:1
供职机构:南京大学更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 5篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 5篇纳米
  • 5篇纳米压印
  • 4篇纳米压印技术
  • 2篇旋涂
  • 2篇栅结构
  • 2篇偏振
  • 2篇偏振器
  • 2篇气体流量
  • 2篇微加工
  • 2篇米线
  • 2篇结构线
  • 2篇刻蚀
  • 2篇宽带
  • 2篇出纳
  • 1篇阳极
  • 1篇阳极氧化
  • 1篇软模板
  • 1篇图案
  • 1篇图案化
  • 1篇紫外光固化

机构

  • 7篇南京大学

作者

  • 7篇林亮
  • 6篇卢明辉
  • 5篇葛海雄
  • 5篇陈延峰
  • 5篇徐叶龙
  • 3篇袁长胜
  • 3篇宋宝生
  • 2篇万为伟
  • 1篇余思远
  • 1篇戴明

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 5篇2013
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法
本发明公开了一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法。本发明的偏振器,由基板上的Al-SiO<Sub>2</Sub>-Al三明治结构纳米线栅构成,基板为在通讯波段透明的光学材料;Al-SiO<Sub>2</Sub>-Al...
卢明辉宋宝生林亮徐叶龙葛海雄陈延峰
文献传递
一种无需对准纳米压印制备异质结构的方法
本发明提供了一种无需对准纳米压印制备不异质结构的方法,步骤如下:(1)利用FIB制备不同深度结构的模板;(2)在衬底表面旋涂一层热塑性纳米压印胶,利用热塑性纳米压印技术将结构转移到胶层;(3)ICP刻蚀掉胶层的残余层,然...
卢明辉林亮万为伟徐叶龙葛海雄袁长胜陈延峰
文献传递
基于纳米压印技术制备人工微结构光电功能材料工艺研究
纳米压印技术是20世纪90年代中期由Stephen Chou首先提出的概念,自从面世以来,纳米压印技术以其高分辨率、高产量、低成本的优点引起了科研人员的广泛关注。本论文对纳米压印技术的模板制备、工艺实施和应用方面进行了研...
林亮
关键词:纳米压印聚焦离子束阳极氧化
文献传递
基于复合软模板纳米压印技术制备图案化蓝宝石衬底的方法
本发明提供了一种基于复合软模板纳米压印技术制备图案化蓝宝石衬底的方法,包括以下步骤:(1)在蓝宝石衬底上沉积一层二氧化硅作为湿法腐蚀掩膜;(2)在二氧化硅层上旋涂一层紫外光固化胶,利用复合软模板纳米压印方法将结构转移到胶...
卢明辉林亮葛海雄余思远袁长胜陈延峰
文献传递
一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法
本发明公开了一种三明治结构线栅宽带偏振器及其制备方法。本发明的偏振器,由基板上的Al-SiO<Sub>2</Sub>-Al三明治结构纳米线栅构成,基板为在通讯波段透明的光学材料;Al-SiO<Sub>2</Sub>-Al...
卢明辉宋宝生林亮徐叶龙葛海雄陈延峰
文献传递
柔性复合模板压印技术制备图形化蓝宝石衬底
2013年
图形化蓝宝石衬底(PSS)技术对提高发光二极管(LED)的内量子效率和光提取效率具有重要意义。研究了一种采用柔性复合模板压印制备图形化蓝宝石衬底的技术,其工艺流程主要包括三步图形转移。首先,在蓝宝石衬底上沉积二氧化硅,并在二氧化硅膜层上旋涂压印胶,利用紫外光固化压印技术实现模板结构向压印胶层转移。再通过电感耦合等离子体刻蚀的方法将压印胶层的结构转移到二氧化硅膜层,并以二氧化硅为掩模湿法腐蚀蓝宝石衬底形成图形结构。最后,去除二氧化硅后即可获得图形化蓝宝石衬底。实验证明,在柔性复合模板纳米压印技术制备的图形化蓝宝石衬底上生长的LED,其光致发光谱的强度比无图形结构衬底上生长的LED明显增强。
宋宝生林亮戴明徐叶龙卢明辉
关键词:光致发光谱
一种无需对准纳米压印制备异质结构的方法
本发明提供了一种无需对准纳米压印制备异质结构的方法,步骤如下:(1)利用FIB制备不同深度结构的模板;(2)在衬底表面旋涂一层热塑性纳米压印胶,利用热塑性纳米压印技术将结构转移到胶层;(3)ICP刻蚀掉胶层的残余层,然后...
卢明辉林亮万为伟徐叶龙葛海雄袁长胜陈延峰
共1页<1>
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