赵玮兵
- 作品数：3 被引量：12H指数：2
- 供职机构：西安理工大学更多>>
- 发文基金：西安市科技计划项目国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程更多>>
- 机械合金化法制备不同Cr含量的W-Cr纳米合金粉末被引量：9
- 2007年
- 采用机械合金化法制备Cr含量为8%、12.5%、20%(质量分数)的纳米W-Cr合金粉,对不同球磨时间粉末进行X射线衍射分析,以确定物相、晶粒尺寸及微应变,并采用扫描电子显微镜观察粉末形貌及粒度的变化。结果表明,采用机械合金化法可以制备不同Cr含量的纳米W-Cr合金粉。随着Cr含量的增加,制备纳米W-Cr合金粉所需球磨时间越长,其中W-8%Cr、W-12.5%Cr和W-20%Cr粉末的最佳球磨时间分别为72、84和96 h,晶粒尺寸小于30 nm。随着球磨时间的增加,晶粒尺寸不断减小,微应变逐渐增加,使常温下Cr在W中的固溶度增加,形成W的过饱和固溶体。Cr含量不同的W-Cr粉末完全合金化均经过4个阶段。
- 肖鹏赵玮兵梁淑华范志康
- 关键词：机械合金化CR含量
- 机械合金化法制备CuWCr复合材料及其真空电击穿性能的研究
- 本文采用机械合金化法与常规烧结熔渗法分别制备了CuWCr复合材料和WCr合金,经过对比研究了显微组织与材料性能的关系,进一步研究了材料在真空高压中的电击穿现象,明确了阴极斑点运动特征和组织性能之间的关系,并对影响耐电压强...
- 赵玮兵
- 关键词：真空断路器金属复合材料电击穿显微组织阴极斑点
- 文献传递
- CuW及CuWCr触头材料的电解抛光被引量：3
- 2006年
- 对 CuW、CuWCr触头材料的电解抛光参数进行了研究。以电解抛光原理为依据，以经验数据为参考,通过对以往的电解抛光装置的改进,确定了对 CuW、CuWCr触头材料电解抛光的最佳参数。结果表明，在实验条件下,CuW、CuWCr触头材料的抛光时间分别为 15～25 s和 20～35 s,电压均为 2.5～4.0 V时可以获得优良的金相观察图。
- 赵玮兵彭清艳赵永芹谢文江梁淑华范志康
- 关键词：CUW电解抛光
