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王旭

作品数:8 被引量:37H指数:5
供职机构:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所光学系统先进制造技术重点实验室更多>>
发文基金:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所创新工程资助项目国家重点基础研究发展计划国家杰出青年科学基金更多>>
相关领域:电子电信机械工程化学工程更多>>

文献类型

  • 8篇中文期刊文章

领域

  • 5篇电子电信
  • 4篇机械工程
  • 3篇化学工程

主题

  • 7篇反射镜
  • 6篇碳化硅
  • 6篇碳化硅反射镜
  • 5篇磨料
  • 5篇固着磨料
  • 3篇固着
  • 3篇粗糙度
  • 2篇去除率
  • 2篇面粗糙度
  • 2篇光学
  • 2篇光学制造
  • 2篇表面粗糙度
  • 1篇电感耦合
  • 1篇电感耦合等离...
  • 1篇抛光
  • 1篇去除函数
  • 1篇人工神经
  • 1篇网络
  • 1篇网络研究
  • 1篇离子

机构

  • 8篇中国科学院长...
  • 4篇中国科学院研...

作者

  • 8篇王旭
  • 4篇张学军
  • 2篇张斌智
  • 2篇徐领娣
  • 1篇刘建卓
  • 1篇裴舒
  • 1篇张峰

传媒

  • 3篇光学精密工程
  • 2篇中国激光
  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇光学学报
  • 1篇光电工程

年份

  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 4篇2009
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
反应烧结碳化硅反射镜表面改性技术被引量:8
2009年
为了解决新型优质光学材料—反应烧结碳化硅(RB-SiC)由SiC和Si两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了反射镜表面改性方案并且从加工工艺的角度介绍了改性工艺流程。以空间反射镜的使用环境为依据,对几种适用的RB-SiC改性材料进行了较为全面的分析比较。本文采用新的离子辅助沉积碳化硅(IAD-SiC)材料为改性层,对改性层的表面形貌及部分性能进行了测试,证明IAD-SiC膜层能够满足改性要求。在厚度为(6±0.5)μm的IAD-SiC膜层表面进行了一系列抛光工艺实验,文中给出了超光滑表面抛光工艺参数和实验结果。对改性层进行精抛光后,100mm口径样片的面形精度为0.033λRMS(λ=632.8nm),表面粗糙度优于0.5nmRMS。结果表明,本方法不仅可以很大程度提高元件表面质量,还可以进一步精修面形,为超光滑、低散射RB-SiC反射镜的加工提供了一条可行途径。
徐领娣张学军王旭
关键词:反应烧结碳化硅表面改性表面粗糙度超光滑表面
大口径凸非球面反射镜检测补偿器的误差标定被引量:2
2013年
大口径凸非球面反射镜的检测是非球面检测中的难题,而零位补偿检测方法是精确检测大口径凸非球面反射镜的有效检测方法之一,但是随着补偿器口径的增大,在补偿器的加工和装调中难免引入误差。文章针对与球面偏差不大的凸非球面反射镜补偿检测,提出了一种用标准球面在线标定补偿器误差的方法,并对一凸非球面补偿检测中的误差进行了标定,使用标定后的补偿器对该凸非球面反射镜进行了补偿检测,并对标定误差进行了分析,标定前补偿器误差方均根值(RMS)为0.097A(波长λ=632.8nm),标定后综合检测误差RMS值小于0.0046λ,满足该凸非球面反射镜设计精度要求。
张斌智王旭
常压电感耦合等离子体工艺用于加工光学材料的去除函数研究被引量:1
2014年
介绍了使用常压条件下的电感耦合等离子体加工工艺用于加工硅基材料的光学反射镜,诸如:熔石英、反应烧结碳化硅(RB-SiC)、硅等材料。主要研究等离子炬在不同硅基材料上的去除函数的有效性。针对获得去除函数进行高斯函数拟合,其半峰全宽(FWHM)为18mm。去除率分别为10.86,0.82,1.51μm/min。利用此工艺加工了一块100mm口径的碳化硅镜坯,获得的实际面形与虚拟加工面形偏差比在8.57%,收敛率偏差在4.7%。实验结果显示在常压条件下加工大口径非球面反射镜具有良好的去除特性。因此,常压电感耦合等离子体工艺在高精度大口径非球面反射镜加工领域有着广阔的应用前景。
王旭
关键词:光学制造
固着磨料加工碳化硅反射镜的微观理论模型被引量:14
2009年
基于固着磨料加工碳化硅反射镜的微观作用原理,从理论上定量分析了金刚石磨料压入碳化硅工件的深度对材料去除率、光学元件表面粗糙度的影响,分别获得了材料去除率数学模型及粗糙度的仿真计算结果。实验与理论模型的对比结果表明:去除率实验值与理论值走势相同并稳定在同一数量级内;粗糙度实验所使用的W1.5,W3.5,W5等丸片获得的粗糙度理论值与实验偏差分别为5.97%,3.19%,3.59%,由此验证了理论分析的正确性。
王旭张学军
关键词:碳化硅反射镜固着磨料去除率粗糙度
固着磨料加工碳化硅反射镜的实验被引量:8
2009年
考虑固着磨料加工工艺其固着磨料与工件相对运动关系固定,有利于精确加工,提出了采用该工艺加工碳化硅反射镜的方法,利用大颗粒金刚石磨料快速加工出了较好的镜面质量。在工艺实验中,分别测得了W7,W5,W3.5,W1.5固着磨料丸片在特定转速和压力下对碳化硅材料的去除特性。对多组去除量曲线的分析表明,此工艺不仅有着较高的去除率,而且稳定性良好。对表面粗糙度测量的结果表明,使用W7丸片即可获得粗糙度为42.758 nm rms的镜面。减小所用丸片的粒度,工件表面粗糙度随之减小,使用W1.5丸片抛光后,最终获得了粗糙度为1.591 nm rms的光滑镜面。实验结果表明,固着磨料加工碳化硅反射镜工艺在粗研、精研、粗抛等加工阶段内可以取代传统的散粒磨料加工工艺。
王旭张学军徐领娣裴舒刘建卓
关键词:碳化硅反射镜固着磨料去除率表面粗糙度
固着磨料工艺加工碳化硅反射镜表面质量研究被引量:5
2012年
主要研究内容是对固着磨料工艺加工的碳化硅反射镜光学表面进行高频频段的评价。从微观模型入手对表面粗糙度进行了计算机仿真,并将模拟结果与实测结果进行了对比,针对使用不同规格的丸片加工碳化硅反射镜,其表面粗糙度的结果实验值与理论值的偏差比分别为5.97%,3.19%,3.59%,37.37%,并详细分析了出现偏差的可能原因。最后使用分形理论分析了固着磨料工艺加工后获得的光学表面,由此得出固着磨料工艺很容易快速获得较为光滑的光学表面,非常适合于快速表面成形及在较大面形误差的情况下获得较低的表面粗糙度。
王旭
关键词:固着磨料碳化硅非球面高频分形
固着磨料抛光碳化硅反射镜的去除函数被引量:6
2009年
进一步研究了采用固着磨料数控加工碳化硅反射镜的工艺,基于平转动加工方式的去除函数理论推导出了多丸片抛光盘的去除函数模型。根据趋近因子、曲线距离等结果对抛光盘运动偏心距及丸片间距等参数进行优化,由优化后的参数指导实验。理论模型与实验结果对比显示,理论最大去除率与实验数据的偏差为0.007 3μm/min,偏差比例为5.58%;理论去除函数曲线与实验曲线的距离偏差Drms为0.084 9μm,偏差比例为7.01%。在分析部分,引入填充因子来间接评价去除函数形状。实验结果很好地验证了理论模型的准确性。该模型对固着磨料磨具抛光的工艺过程具有很好的预测性,在加工碳化硅反射镜领域极大地弥补了使用散粒磨料工艺加工所带来的不足,使加工效率得以明显提升。
王旭张峰张学军
关键词:固着磨料碳化硅去除函数
固着磨料加工高精度碳化硅反射镜粗糙度的人工神经网络研究被引量:2
2014年
固着磨料工艺主要针对某空间相机的高精度平面折反镜而开发,分别从微观结构的仿真计算和人工神经网络两个角度对此工艺加工碳化硅反射镜表面粗糙度进行分析。一方面引入了二维粗糙度的在微观结构仿真概念,在人工神网络方面使用双隐层神经网络对固着磨料工艺的加工结果进行了分析,使得网络的性能大幅提高,收敛结果达到了8.4075×10^-5,并对网络性能进行了验证,标准化后的预测集与实验验证集距离偏差为0.2113。完全满足固着磨料工艺对表面粗糙度的预测需求。
王旭张斌智
关键词:光学制造固着磨料碳化硅
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