王刚
- 作品数：30 被引量：24H指数：3
- 供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：电子电信理学金属学及工艺交通运输工程更多>>
- 光学元件超声清洗工艺研究被引量：7
- 2012年
- 系统开展了光学元件超声清洗工艺的实验研究。通过研究超声清洗剂、清洗温度等工艺参数的优化,找到了能够有效祛除元件表面无机污染物和有机污染物的较佳超声清洗工艺,且超声清洗没有对光学元件表面产生损伤,清洗后的光学元件接触角小于6°,并不残留大于1μm的颗粒,超声清洗对光学元件表面污染物的祛除能力远胜于手工清洗。
- 王刚马平邱服民胡江川鄢定尧
- 关键词：超声清洗接触角粗糙度
- 抛光胶制备装置
- 本实用新型公开了一种抛光胶制备装置，属于光学加工技术领域。它包括桶体、桶内层及二者之间的保温层及上部的桶盖，桶体上部设有上支架，上支架上安装有电机、减速器及搅拌桨叶，桶体下部设有支撑脚，桶体底部设有出料管及出料阀；桶体中...
- 赵恒蔡超王刚马平鄢定尧谢磊何祥朱衡鲍振军
- 文献传递
- 渐变折射率Ta_2O_5/SiO_2薄膜多脉冲激光损伤特性被引量：3
- 2014年
- 采用离子束溅射(IBS)的方式,制备了1064nm高反射Ta2O5/SiO2渐变折射率光学薄膜。对其光学性能和在基频多脉冲下抗损伤性能进行了分析。通过渐变折射率的设计方式,很好地抑制了边带波纹,增加了1064nm反射率。通过对损伤阈值的分析发现,随着脉冲个数的增加,损伤阈值下降明显;但是在20个脉冲数后,损伤阈值(维持在22J/cm2左右)几乎保持不变直到100个脉冲数。通过Leica显微镜对损伤形貌的观察,发现损伤诱因是薄膜表面的节瘤缺陷。通过扫描电镜(SEM)以及聚集离子束(FIB)对薄膜表面以及断面的观察,证实了薄膜的损伤起源于薄膜表面的节瘤缺陷。进一步研究得出,渐变折射率薄膜在基频光单脉冲下损伤主要是由初始节瘤缺陷引起的,在后续多脉冲激光辐照下初始节瘤缺陷引起烧蚀坑的面积扩大扫过薄膜上的其他节瘤缺陷,引起了其他节瘤缺陷的喷射使损伤加剧,造成损伤的"累积效应"。
- 蒲云体陈松林乔曌刘浩王刚胡江川马平
- 关键词：离子束溅射多脉冲损伤阈值
- 一种光学元件抛光工具及抛光方法
- 本发明公开一种光学元件抛光工具，包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层，连接杆的上端与抛光机构连接，连接杆的下端与磨盘的顶部连接，连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合，磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台，抛光膜层包覆在凸台上，压圈中...
- 黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒高胥华何祥马平鄢定尧
- 文献传递
- 一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置
- 本发明公开一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置，包括用于装置元件的保持架和环抛驱动机构，保持架对抛光盘面进行压力加载，并使元件贴合在抛光盘面上，环抛驱动机构带动保持架在抛光盘面旋转从而使元件进行环抛加工，并且还设置有带动保...
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- 文献传递
- 并行扫描激光预处理装置及方法
- 本发明公开了一种并行扫描激光预处理装置及方法，属于光学技术领域。装置包括沿激光传输方向设置的激光光源、机械快门、能量衰减器、光束汇聚系统、分光劈板和合束镜，还包括光束轮廓仪、激光能量计、信标光源和电动位移台；光学元件置于...
- 马平郑轶刘志超浦云体王刚
- 文献传递
- 一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置
- 本发明公开了一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置，包括酸液输运单元、搅拌混合单元、抛光液输运单元和喷头，采用方法为将熔石英元件在特定浓度的氢氟酸稀溶液中浸泡5～10min，去除表面污染物与抛光再沉积层；根据...
- 吕亮马平鄢定尧朱衡黄金勇蒲云体蔡超王刚张明骁
- 一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
- 本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈...
- 黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒马平鄢定尧高胥华
- 文献传递
- 光学元件表面离子束抛光过程边缘效应抑制被引量：6
- 2020年
- 目的为解决光学元件表面进行离子束抛光加工过程中存在边缘效应的问题。方法采用将驻留时间网格在面形采样网格的基础上进行延拓的方法来抑制边缘效应的产生,即将驻留点的网格范围向外进行延拓,使元件边缘部分的采样点中有去除作用的驻留点的数量与中间部分相同,延拓距离大于离子束半径。使用截断奇异值方法求解线性方程组模型的驻留时间,分析仿真结果中边缘效应出现的原因。结果当驻留时间采用和面形误差同样的网格划分时,残留面形不收敛,且发生严重的边缘效应。当取截断参数k=80时,其面形PV值由初始的104.489 nm下降到11.675 nm,RMS值由28.009 nm收敛到1.572 nm,且没有边缘效应的产生。采用上述模拟结果作为实验设定参数,在平面光学元件上进行离子束抛光实验研究,抛光前后,PV值由102 nm降为37 nm,RMS由23 nm降为2 nm。结论实验结果验证了模拟结果的有效性,使用驻留时间网格延拓的方法可以避免边缘效应的产生,在此基础上进行离子束抛光,光学元件面形PV及粗糙度达到了非常好的收敛效果。
- 李晓静王大森王刚张旭张宁裴宁聂凤明齐子诚
- 关键词：光学元件面形误差
- 一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法
- 本发明公开了一种可用于球面、非球面反射镜或透镜的焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法，特别适用于大口径长焦距光学元件的焦距检测，涉及光学检测领域。沿光路方向该装置主要包括光源（1）、光束聚焦透镜组（2）、...
- 赵恒崔建朋胡庆刘杰马平鄢定尧黄金勇蔡超王刚何祥谢磊
- 文献传递
