张杨
- 作品数：7 被引量：11H指数：2
- 供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术轻工技术与工程机械工程金属学及工艺更多>>
- 浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究被引量：1
- 2014年
- 为了分析抛光粉粒径对材料去除效果的影响,选用不同的平均粒径以及不同比例混合氧化铈抛光粉分别对K9玻璃进行了抛光试验。对抛光后的工件表面粗糙度及去除量进行了定量研究。结果表明,在试验条件相同的情况下,不同平均粒径的抛光粉,粒径越小,抛光后的元件表面粗糙度越好。从使用不同比例的混合抛光粉试验中可以看出,粒度的均匀性是影响工件表面粗糙度的重要因素。结合抛光粉粒度分布图和试验结果可以看出,抛光粉粒子的分布范围越小,以及各粒径大小分布在峰值附近的粒子所占体积百分比越接近,加工后的工件表面粗糙度越小。
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- 关键词：表面粗糙度去除速率
- 塑性加工条件下射流颗粒冲击去除效应被引量：1
- 2014年
- 针对在微观上存在尖锐突起、凹坑和划痕等缺陷的光学元件,提出用低质量分数磨料水射流冲击的方式对其进行处理。从弹性接触出发,对射流中粒子与元件发生塑性接触的临界速度进行了推导,并引入了塑性转入脆性加要的临界速度,从而对射流的塑性去除阶段作了明确的界定。针对常用的两种光学材料K9和石英玻璃,结合具体参数对使其处于塑性去除阶段的射流速度进行了模拟计算,利用单颗粒冲击去除模型,在塑性去除范围内对两种材料的冲击去除进行了模拟计算。结果表明:石英玻璃进入塑性去除的临界速度高于K9玻璃,而进入脆性去除的临界速度低于K9玻璃,因而使石英玻璃处于塑性去除阶段的射流速度范围为K9玻璃相应速度范围的子区间;在塑性去除阶段,各材料的去除量皆随着冲击速度的增大而增大,但较硬的石英玻璃更不耐冲击,较K9玻璃更容易被去除。
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- 关键词：光学加工磨料水射流
- 一种多束交替水射流抛光盘及抛光方法
- 本发明是一种多束交替水射流抛光盘，该抛光盘包括：多组喷口和底座，在底座的轴心处设有一喷口，以该一喷口的轴心设置不同半径的第一同心圆和第二同心圆，并在第一同心圆和第二同心圆的圆周上布设通透于底座的多组喷口，每个喷口与底座的...
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- 文献传递
- 一种多束交替水射流抛光盘及抛光方法
- 本发明是一种多束交替水射流抛光盘，该抛光盘包括：多组喷口和底座，在底座的轴心处设有一喷口，以该一喷口的轴心设置不同半径的第一同心圆和第二同心圆，并在第一同心圆和第二同心圆的圆周上布设通透于底座的多组喷口，每个喷口与底座的...
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- 文献传递
- 射流抛光中的流场特性研究被引量：7
- 2014年
- 为了给出射流抛光系统的优化设计参数,从理论上分析了冲击射流流场的结构特点,建立了工件壁面上的速度、压强与冲击角度、射流出口速度以及冲击距离的数学关系。就不同参数对射流流场分布的影响进行了定量计算,结果表明,工件壁面上的压强和速度与出口压强和速度成线性正比关系。当冲击距离大于9.6d(d为射流喷口的直径)时,工件壁面压强和速度随冲击距离的增大而减小,冲击距离增加到15d时,壁面压强最大值减小到0.54p0(p0为射流出口处的压强)。工件壁面压强和速度随冲击角度的减小而减小,当入射角为90°、60°和45°时,分别得到壁面压强最大值ps=0.95 p0,0.74p0,0.475p0,上游速度最大值um02=0.96u0,0.8u0,0.67u0(u0为射流出口处的速度)。
- 罗银川李秀龙张杨张蓉竹杨李茗
- 关键词：冲击射流流场特性
- 双轴式研磨抛光中抛光盘相对位置对去除量的影响研究被引量：2
- 2013年
- 为了了解在抛光过程中抛光盘位置对光学元件面形的影响,对一种双轴式平面研磨抛光运动过程进行了分析。从Preston方程出发,推导了去除函数的表达式,研究了抛光盘的摆幅及偏心距离对元件的去除量分布的影响。通过定量计算得知,在加工转速不变的情况下,增大抛光盘的摆幅,元件不同圆周上的去除量也不同。增大偏心距,元件的去除量增大,不论抛光盘相对元件的位置如何改变,回转中心的去除量总是最大。
- 张杨李秀龙徐清兰张蓉竹
- 关键词：平面研磨去除函数偏心距
- 双轴式研磨抛光方式下抛光盘相对位置对去除量的影响研究
- 随着现代科学技术的不断发展，对于光学元件的表面质量提出了越来越多的要求。研磨抛光是超精密加工的重要手段，现有文献的研究工作主要集中在磨粒的运动轨迹以及被抛光元件抛光之后表面均匀性的研究，在设计加工过程中还需要了解抛光盘在...
- 张杨李秀龙徐清兰张蓉竹
- 关键词：平面研磨去除函数
