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瞿晓雷

作品数：8 被引量：0H指数：0
供职机构：上海大学更多>>
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合作作者

文献类型

  • 7篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 7篇非晶硅
  • 6篇硅薄膜
  • 6篇非晶硅薄膜
  • 5篇金属
  • 5篇金属诱导
  • 4篇气相沉积
  • 3篇退火
  • 3篇气相
  • 3篇气相沉积法
  • 3篇热退火
  • 3篇金属诱导晶化
  • 3篇晶化率
  • 3篇晶粒
  • 3篇晶粒大小
  • 3篇快速热退火
  • 3篇衬底
  • 2篇退火时间
  • 2篇污染
  • 2篇污染物
  • 2篇污染物量

机构

  • 8篇上海大学

作者

  • 8篇史伟民
  • 8篇瞿晓雷
  • 6篇金晶
  • 4篇廖阳
  • 4篇邱宇峰
  • 3篇周平生
  • 2篇袁安东
  • 2篇许月阳
  • 1篇张月璐
  • 1篇杨伟光
  • 1篇刘功龙
  • 1篇钱隽
  • 1篇周平华
  • 1篇李季戎
  • 1篇李杰
  • 1篇吕燕芳
  • 1篇於凡枫

传媒

  • 1篇上海大学学报...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 4篇2012
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
两步退火辅助氯化镍诱导晶化非晶硅薄膜的方法
本发明涉及两步退火辅助氯化镍溶液诱导晶化非晶硅薄膜的方法，属于多晶硅薄膜制备工艺技术领域。用气相沉积法在载玻片衬底上沉积非晶硅薄膜；将溶有氯化镍的乙醇溶液加入到乙基纤维素、酒精、甲苯的混合溶液中，得到粘稠的溶液并将其旋涂...
金晶瞿晓雷史伟民邱宇峰周平生廖阳
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超声波辅助下水浴真空物理气相沉积厚膜的系统装置
本实用新型超声波辅助下水浴真空物理气相沉积厚膜的系统装置，主要包括有具有真空室、沉积厚膜的TFT基片、基片温度控制仪、真空抽气泵、循环冷却水管、膜原料蒸发管及其水浴加热槽超声波产生器。本实用新型的装置结构简单，易于操作，...
刘功龙史伟民吕燕芳廖阳杨伟光袁安东瞿晓雷
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多循环快速热退火辅助金属诱导晶化非晶硅薄膜的方法
本发明涉及一种多循环快速热退火辅助金属诱导晶化非晶硅薄膜的方法，属于多晶硅薄膜制备工艺技术领域。用气相沉积法在载玻片衬底上沉积非晶硅薄膜；将氯化镍溶于酒精和甲苯的混合溶液，并加入乙基纤维素，配成粘稠性溶液；将该溶液旋涂，...
金晶戴文韫瞿晓雷邱宇峰史伟民
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一种用金属铜在低温下诱导非晶硅薄膜晶化为多晶硅薄膜的方法
本发明涉及一种多晶硅薄膜的制备方法，具体来说就是利用金属铜的催化作用在低温下通过循环退火将非晶硅薄膜诱导晶化为多晶硅薄膜。本发明的主要技术方案是首先在玻璃衬底上生长衬底/非晶硅/二氧化硅/铜膜的结构，然后进行循环式退火，...
史伟民周平生周平华李杰瞿晓雷廖阳钱隽李季戎张月璐许月阳
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多循环快速热退火非晶硅薄膜的方法
本发明涉及多循环快速热退火晶化非晶硅薄膜的方法，属于多晶硅薄膜制备工艺技术领域。用气相沉积法在普通玻璃载片衬底上沉积非晶硅薄膜；随后进行快速热处理，升温速率在150-200℃/s左右，将薄膜样品从室温升至640℃后再恒温...
金晶瞿晓雷史伟民戴文韫袁安东
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多循环快速热退火诱导普通玻璃衬底非晶硅薄膜晶化
2012年
介绍一种使用快速热退火设备,经多次循环退火诱导,在普通玻璃衬底上生长非晶硅薄膜晶化的实验方法.利用拉曼(Raman)光谱、原子力显微镜(atomic force microscope,AFM)、紫外可见分光光度计(UV-VISspectrophotometer)和霍尔(Hall)测试系统对薄膜的结构、形貌及电子迁移率进行测试.结果表明,当退火温度达到680℃时,薄膜开始出现晶化现象;随着快速热退火次数的增加,拉曼光谱在500 cm^(-1)处测得多晶硅特征峰;在循环退火5次后,其最佳晶化率达到71.9%,光学带隙下降,晶粒增大,载流子迁移率提高.
於凡枫金晶史伟民瞿晓雷许月阳
关键词：非晶硅晶化
两步退火辅助氯化镍诱导晶化非晶硅薄膜的方法
本发明涉及两步退火辅助氯化镍溶液诱导晶化非晶硅薄膜的方法，属于多晶硅薄膜制备工艺技术领域。用气相沉积法在载玻片衬底上沉积非晶硅薄膜；将溶有氯化镍的乙醇溶液加入到乙基纤维素、酒精、甲苯的混合溶液中，得到粘稠的溶液并将其旋涂...
金晶瞿晓雷史伟民邱宇峰周平生廖阳
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多循环快速热退火辅助金属诱导晶化非晶硅薄膜的方法
本发明涉及一种多循环快速热退火辅助金属诱导晶化非晶硅薄膜的方法，属于多晶硅薄膜制备工艺技术领域。用气相沉积法在载玻片衬底上沉积非晶硅薄膜；将氯化镍溶于酒精和甲苯的混合溶液，并加入乙基纤维素，配成粘稠性溶液；将该溶液旋涂，...
金晶戴文韫瞿晓雷邱宇峰史伟民
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