马学龙
- 作品数：5 被引量：15H指数：2
- 供职机构：中南大学物理与电子学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金湖南省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 氧分压对锰掺杂氧化锌结构及吸收性能的影响被引量：2
- 2008年
- 采用直流磁控溅射的方法,在玻璃衬底上沉积了Zn0.93Mn0.07O薄膜,研究了氧分压对薄膜结构及吸收性能的影响。X射线光电子能谱(XPS)测试结果表明,Mn2+取代了ZnO中的大部分Zn2+,但还掺杂有少量的MnO2分子。X射线衍射测试(XRD)结果显示,Zn0.93Mn0.07O薄膜都具有高度的C轴择优取向,在氧分压为0.4时,薄膜具有最小的半高宽及最大的晶粒尺寸。由于伯斯坦-莫斯效应,Zn0.93Mn0.07O薄膜光吸收跃迁过程只能在价带态和费米能级附近及以上的导带空态之间发生,与纯ZnO薄膜吸收谱线相比,吸收边产生了蓝移,同时还伴随有导带尾跃迁的发生。研究表明,这是由3d5多重能级的d-d跃迁而引起的。经过计算,氧分压为0.4时,Zn0.93Mn0.07O薄膜的禁带宽度是最大的,这可能是由交换作用的减弱而引起的。
- 杨兵初张丽马学龙颜建堂
- 关键词：磁控溅射氧分压
- p型透明导电Cu-Al-O薄膜的直流共溅射法制备
- 2008年
- 采用Cu靶和Al靶直流共溅射法制备了p型透明导电Cu-Al-O薄膜。用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)仪、四探针测量仪、紫外-可见分光光度计对样品进行了表征。结果表明,对所制备的p型透明导电Cu-Al-O薄膜经高温退火后,其结晶质量和导电性能均有一定提高,薄膜在可见光区的平均透过率接近70%,禁带宽度约为3.75 eV。
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- 关键词：高温退火
- 掺锰氧化锌的结构和光学特性(英文)被引量：5
- 2007年
- 采用直流反应磁控溅射的方法,在玻璃衬底上沉积了Zn0.93Mn0.07O薄膜,研究了氧分压对薄膜结构和光学特性的影响。X射线衍射测试结果显示,Zn0.93Mn0.07O薄膜都具有高度的c轴择优取向,在氧分压为0.4的时候,薄膜的衍射峰具有最小的半峰全宽,最大的晶粒尺寸。X射线光电子能谱测试结果表明:Mn2 +离子已经取代了氧化锌晶格中的部分Zn2 +,但还掺杂有少量的MnO2分子;处在1 021 eV的Zn 2p3/2能级只有单一的Zn2 +;而O2 -则来自Zn-O和Mn-O。由于伯斯坦-莫斯效应,Zn0.93Mn0.07O薄膜光吸收跃迁过程只能在价带态和费密能级附近及以上的导带空态之间发生,其吸收谱线显示,与纯ZnO薄膜吸收谱线相比,产生了蓝移现象。同时还伴随有导带尾跃迁的发生,研究表明,这是由3d5多重能级的d-d跃迁而引起的。经过计算,在氧分压为0.4的时,Zn0.93Mn0.07O薄膜的禁带宽度是最大的,这可能是由交换作用的减弱而引起的。
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- 关键词：溅射光学性能
- p型透明导电Cu-Al-O薄膜的制备与光电性能研究
- CuAlO/_2/(CAO/)p型透明导电薄膜是1997年Kawazoe等人基于价带化学修饰/(CMVB/)理论,首次制备出的铜铁矿结构p型直接带隙透明氧化物薄膜。它的成功开发为实现半导体全透明光电器件,如透明二极管、透...
- 马学龙
- 文献传递
- 掺硅类金刚石薄膜的制备及其光学性质研究被引量：6
- 2008年
- 利用直流磁控溅射技术在单晶硅和光学玻璃表面制备了掺硅类金刚石薄膜,采用紫外-可见光光谱仪、原子力显微镜、X射线光电子能谱(XPS),荧光光谱仪考察了不同硅含量对类金刚石薄膜的光学透过、表面形貌、电子结构和光学带隙的影响。结果表明,掺硅后的类金刚石薄膜的表面粗糙度先变大后变小,光学带隙变宽,但当掺硅达到一定量时,光学带隙有所降低。随着硅掺入量的增加,薄膜的红外透过率显著提高;光的发射中心"蓝移"并且强度增加。XPS的结果表明薄膜的sp3/sp2的比率随着硅含量的增加而变大。
- 杨兵初颜建堂张丽马学龙
- 关键词：类金刚石薄膜磁控溅射X射线光电子能谱光学带隙
