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倪静

作品数:4 被引量:3H指数:1
供职机构:河南科技大学物理与工程学院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇电子能
  • 3篇电子能谱
  • 3篇光电子能谱
  • 3篇X射线
  • 3篇X射线光电子...
  • 2篇氮含量
  • 2篇阴极
  • 2篇空心阴极
  • 1篇氮化碳
  • 1篇氮化碳薄膜
  • 1篇射线
  • 1篇气相沉积
  • 1篇模量
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压入
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光电子能谱研...
  • 1篇光学
  • 1篇光学材料

机构

  • 3篇中国工程物理...
  • 2篇河南科技大学
  • 2篇四川大学

作者

  • 4篇倪静
  • 3篇吴卫东
  • 2篇唐永建
  • 2篇杨向东
  • 2篇陈志梅
  • 1篇李立本
  • 1篇郝希平
  • 1篇李小红

传媒

  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇功能材料
  • 1篇新乡学院学报
  • 1篇2011中国...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2009
  • 1篇2007
  • 1篇2005
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
空心阴极制备a-CN_x:H薄膜的结构及力学性能研究
2007年
以CH4和N2为反应气体,采用空心阴极放电激发的等离子体增强化学气相沉积法在Si片上制备出了氢化非晶碳氮(a-CNx∶H)薄膜。利用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面光洁度及表面形貌进行了测量和表征。利用X射线光电子能谱(XPS)、傅立叶红外吸收谱(FTIR)和纳米压入(nano-indentation)等测试手段分析了薄膜的成分、结构及力学性能。结果表明:薄膜的表面光滑、致密,表面光洁度<1nm。薄膜的最大N含量达到了26.39%(原子分数),对应的N/C为0.41。XPS和FTIR分析表明:薄膜中的C、N原子是通过C—N、C N、C≡N结合的,同时存在一定量的—CHx和—NHx基团。另外,我们发现薄膜的硬度及弹性模量随N2/CH4比的增加而增加,并且主要受微观结构(C—N/C≡N比)的影响。
倪静陈志梅吴卫东杨向东唐永建
关键词:空心阴极纳米压入模量
氮化碳薄膜的XPS及FTIR研究
随着科学技术和社会需求的发展,薄膜材料己成为一种具有广阔应用前景的功能材料。氮化碳薄膜凭借其高弹性、高硬度、低摩擦系数、优良的抗腐性能及优异的光电性能,在防摩损涂层材料、绝缘材料、光学涂层材料、太阳能电池等各个领域具有光...
倪静
关键词:光学材料氮化碳薄膜X射线光电子能谱氮含量
文献传递
非晶碳氮薄膜的X射线光电子能谱研究
2009年
采用空心阴极等离子体化学气相沉积法,在甲烷-氨气、氢气混合气体体系下,制备出了非晶碳氮薄膜。利用原子力显微镜(AFM)及X射线光电子能谱(XPS)对薄膜的表面形貌、成分及微观结构进行了测试和表征。结果表明,薄膜的表面光滑、致密,均方根粗糙度小于0.5 nm;薄膜中的氮含量随NH3(H2)流速的增加呈现降低的趋势,sp2C-N及sp3C-N键含量均随氮含量的增加而增加。
倪静郝希平李立本李小红吴卫东
关键词:X射线光电子能谱氮含量
CHN薄膜的制备方法与工艺研究被引量:3
2005年
采用空心阴极等离子化学气相沉积方法,以NH3/H2的混合气体及CH4气体为原料反应气体,成功地制备了非晶的CHN薄膜,研究了CHN薄膜的沉积速率与直流电压及反应气体流量的关系。同时用X射线光电子能谱(XPS)确定了不同条件下薄膜中N原子的百分比,用原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面粗糙度及表面形貌进行了测量和表征。结果表明:薄膜中N原子的百分比最大为12%,薄膜的表面结构光滑、致密,表面粗糙度小于1 nm。
倪静陈志梅吴卫东杨向东唐永建
关键词:空心阴极化学气相沉积沉积速率X射线光电子能谱
共1页<1>
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