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陈益芳

作品数:6 被引量:5H指数:2
供职机构:东南大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 4篇化学镀
  • 4篇激光
  • 3篇镀铜
  • 3篇致冷
  • 3篇器件芯片
  • 3篇芯片
  • 3篇化学镀铜
  • 2篇制冷
  • 2篇制冷器
  • 2篇微型制冷器
  • 2篇活化
  • 2篇激光器
  • 2篇激光器件
  • 2篇激光诱导
  • 2篇光器件
  • 2篇硅基
  • 2篇硅基底
  • 2篇并联
  • 1篇等离子增强化...
  • 1篇镀镍

机构

  • 6篇东南大学

作者

  • 6篇陈益芳
  • 5篇陈云飞
  • 3篇杨决宽
  • 2篇胡明雨
  • 2篇宫昌萌
  • 2篇袁承超
  • 1篇林晓辉
  • 1篇蒋华
  • 1篇张远明

传媒

  • 1篇微纳电子技术
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 3篇2006
  • 3篇2005
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
金属微细结构化学镀镍及镀液稳定性分析被引量:2
2005年
化学镀镍技术是一种有效的表面微机械加工艺,为此介绍了碱性溶液中硅表面化学镀镍的工艺过程及其镀液稳定性测试方法.化学镀镍是一个表面自催化的氧化还原过程,基底表面的前处理十分关键,对整个实验过程有着决定性影响.半导体硅表面没有催化活性,施镀之前要对基底先进行活化处理,但在处理过程中不可避免引入的少量钯粒子以及从基底表面扩散到镀液中的镍粒子都具有很强的催化活性,使镀液在瞬时分解,析出海绵状镍, 导致镀液失效.因此,应合理选择稳定剂以阻止自分解反应,使镀液稳定.实验结果表明,在相同施镀条件下镀液的稳定性随时间、装载比的变化而发生显著变化。
袁承超陈益芳陈云飞林晓辉
关键词:化学镀活化稳定性分析
并联阵列式微型制冷器及其制备方法
并联阵列式微型制冷器及其制备方法是一种用来提高对激光器件、计算机CPU的温度控制,改善芯片内部的散热,从而提高器件芯片的工作效率,延长使用寿命的技术,其层状结构,其位置排列依次为:P型半导体的硅基底(6),P型半导体的缓...
陈云飞陈益芳杨决宽宫昌萌胡明雨
文献传递
半导体硅上激光诱导选择性化学镀铜被引量:3
2006年
利用YAG脉冲激光在n型硅基底上制备出了铜化学镀薄层,由激光剥离形成的微型图元通过化学镀铜工艺在硅基底上形成铜的微型结构。在化学镀工艺过程中为了使得化学镀铜沉积能够连续进行,要对基底表面先进行活化。实验表明,预处理及其后的清洗工艺对选择性镀膜质量影响很大;采用丙酮或硝酸水清洗,有助于获得清晰的微型图元结构。
陈益芳袁承超蒋华张远明陈云飞
关键词:激光化学镀活化
微型致冷器及其制备方法
微型致冷器及其制备方法是一种用来提高对激光器件、计算机CPU的温度控制,改善芯片内部的散热,从而提高器件芯片的工作效率,延长使用寿命的技术,该致冷器为多层结构,自下至上顺序为高温区域(1),金属层(2),P型半导体(3)...
陈云飞陈益芳杨决宽
文献传递
并联阵列式微型制冷器及其制备方法
并联阵列式微型制冷器及其制备方法是一种用来提高对激光器件、计算机CPU的温度控制,改善芯片内部的散热,从而提高器件芯片的工作效率,延长使用寿命的技术,其层状结构,其位置排列依次为:P型半导体的硅基底(6),P型半导体的缓...
陈云飞陈益芳杨决宽宫昌萌胡明雨
文献传递
激光诱导选择性化学镀铜及沉积过程的数值模拟
随着电子技术产品朝着高可靠性、微型化方向发展,化学镀层以其自身独特的电学性能在微机电系统(MEMS)、微电子器件等中的应用越来越广,越来越受到人们的关注。激光由于在较小的光能能量密度下具有极高的光强、加热时热扩散区域极小...
陈益芳
关键词:化学镀铜化学沉积数值模拟扩散层
文献传递
共1页<1>
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