您的位置： 专家智库 > >

李俊磊

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：安徽大学物理与材料科学学院信息材料与器件安徽省重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇性能表征
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇射频磁控溅射...
  • 1篇浸润性
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 1篇安徽大学

作者

  • 1篇孙兆奇
  • 1篇朱煜东
  • 1篇宋学萍
  • 1篇李俊磊
  • 1篇汪娴

传媒

  • 1篇安徽大学学报...

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
射频磁控溅射制备CuAlO_2薄膜及性能表征被引量：5
2012年
利用Al(OH)3和Cu2O高温固相反应烧结制备的靶材,采用射频磁控溅射法,在玻璃基片上制备非晶CuAlO2薄膜.薄膜的表面均匀,颗粒大小约为50 nm,可见光范围内透射率为60%,平均折射率达2.0,直接带隙为3.86 eV.随着在紫外光源下曝光时间的增加,薄膜的接触角从96.3°减小到87.5°,薄膜仍呈现出良好的疏水性.
孙兆奇汪娴李俊磊朱煜东宋学萍
关键词：磁控溅射浸润性
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0