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文献类型

  • 1篇中文专利

主题

  • 1篇电解氧化
  • 1篇砂目
  • 1篇耐印力
  • 1篇胶印
  • 1篇胶印版
  • 1篇废酸
  • 1篇废酸液
  • 1篇版基

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇刘云霞
  • 1篇宋延林
  • 1篇沙栩正
  • 1篇杨明
  • 1篇司国丽

年份

  • 1篇2016
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
一种胶印版基表面处理方法
本发明属于涉及到一种胶印版基表面处理方法。所述方法为将金属版基通过特定溶液浸泡后在其表面形成粗糙度为0.1-0.4μm的多孔道致密网状结构;所述特定溶液按质量百分含量计,包括0.1-20wt%的金属盐、0-5wt%的表面...
刘云霞杨明宋延林沙栩正司国丽
文献传递
共1页<1>
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