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杨建章

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 2篇光刻机
  • 1篇调焦机构
  • 1篇全自动
  • 1篇显微镜
  • 1篇XY平台
  • 1篇测量系统

机构

  • 2篇中国电子科技...

作者

  • 2篇杨建章
  • 1篇李霖
  • 1篇张云鹏
  • 1篇贾亚飞

传媒

  • 2篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2015
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
光刻机双面对准精度测量系统被引量：1
2015年
双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标,介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统,并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理,对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。
李霖贾亚飞张云鹏杨建章
关键词：光刻机
全自动光刻机对准系统的设计与研究
2017年
对全自动光刻机的对准系统进行了分析与研究,探讨了整体机械结构、光学结构、安装时的步骤和要求,以及XY平台的静态特性分析。
杨建章
关键词：显微镜调焦机构XY平台
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共1页<1>
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