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马浩

作品数:4 被引量:19H指数:1
供职机构:河北工业大学更多>>
发文基金:天津市自然科学基金河北省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信化学工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇硫化
  • 2篇硫化钼
  • 2篇二硫化钼
  • 2篇MOS2
  • 1篇电子器件
  • 1篇适配
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇气敏
  • 1篇气敏特性
  • 1篇连接板
  • 1篇连接节点
  • 1篇晶体管
  • 1篇溅射
  • 1篇光电
  • 1篇光电子
  • 1篇光电子器件
  • 1篇光敏
  • 1篇光敏特性
  • 1篇横梁

机构

  • 4篇河北工业大学

作者

  • 4篇马浩
  • 2篇杨瑞霞
  • 2篇李春静
  • 1篇吴迈

传媒

  • 1篇材料导报
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2024
  • 3篇2017
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
退火温度对Ag/VO_x/Al阻变存储器性能的影响
2017年
阻变存储器(RRAM)是下一代最有潜力的非易失性存储器。利用磁控溅射、电子束蒸发和离子束溅射方法制备了一种Ag/VO_x/Al结构的RRAM。使用半导体参数分析仪(Agilent B1500A)测试了器件的电学特性,器件具有双极阻变特性。器件的高阻态的传输机制为空间电荷限制电流(SCLC)机制,低阻态的传输机制为欧姆机制,器件的阻变机制为金属导电细丝机制。研究了不同退火温度(150~300℃)对Ag/VO_x/Al器件阻变性能的影响。研究表明,不同退火温度不仅会影响VO_x薄膜的表面形貌与晶面组成,而且会影响器件的电学性能,在退火温度为200℃时器件的阻变窗口最大,而在300℃时器件的耐久性最优秀。适当的退火温度有益于改善器件的阻变性能。
夏梦僧杨瑞霞李春静韩应宽马浩
关键词:磁控溅射退火温度
二硫化钼的制备及其功能器件研究
MoS是一种具有类石墨烯结构的二维层状半导体材料,具有可调控的天然带隙结构。单层MoS由于二维量子限域效应,展现出与体材料不同的光、电性质,在光学、电学等领域拥有重大应用前景,受到了研究人员的广泛关注。本文围绕MoS材料...
马浩
关键词:MOS2光敏特性气敏特性场效应晶体管
文献传递
层状二硫化钼材料的制备和应用进展被引量:18
2017年
二硫化钼(MoS2)是具有天然可调控带隙的二维层状材料,其独特的性质引起了科研人员的广泛关注,在微电子及光电领域具有重要的应用前景。介绍了MoS2的基本性质和常用制备方法,对层状MoS2材料在电子和光电子器件方面的应用进行了总结和展望。
马浩杨瑞霞李春静
关键词:MOS2光电子器件
一种新型的钢木连接节点
本实用新型公开了一种新型的钢木连接节点,包括木质横梁,所述木质横梁的顶端位置处固定连接有连接板,所述连接板的顶端位置处固定连接有安装板,所述安装板的顶端位置处安装有连接柱,所述连接板的两个侧壁上均开设有八个第一安装孔。本...
赵记吴迈吴华静马浩王群浩
共1页<1>
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