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刘新伟

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:沈阳理工大学机械工程学院更多>>
发文基金:辽宁省科技厅科技攻关项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:机械工程金属学及工艺一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇单模
  • 1篇单模光纤
  • 1篇砂轮
  • 1篇水解
  • 1篇透镜
  • 1篇抛光
  • 1篇平面度
  • 1篇去除率
  • 1篇磨粒
  • 1篇磨削力
  • 1篇磨削温度
  • 1篇磨削温度场
  • 1篇进给
  • 1篇缓进给
  • 1篇缓进给磨削
  • 1篇光纤
  • 1篇光纤端面
  • 1篇光纤耦合
  • 1篇粗糙度

机构

  • 4篇沈阳理工大学

作者

  • 4篇刘新伟
  • 3篇吕玉山
  • 3篇李伟凡
  • 3篇李雨菲
  • 3篇赵国伟
  • 1篇舒启林
  • 1篇陈兵

传媒

  • 1篇组合机床与自...
  • 1篇应用光学
  • 1篇成组技术与生...
  • 1篇沈阳理工大学...

年份

  • 2篇2017
  • 2篇2016
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
磨粒有序化排布砂轮缓进给磨削温度场的仿真分析
2016年
为了更好地分析磨削过程中温度场的分布情况,获得磨粒有序化排布砂轮磨削工件表面温度的变化规律,对磨粒有序化排布的砂轮进行了三维建模,并利用有限元仿真软件Abaqus,对磨粒叶序排布、错位排布、矩阵排布和无序排布砂轮磨削温度场分别进行有限元仿真.分析了磨削液、磨削深度、砂轮线速度和工件进给速度对磨削工件表面最高温度的影响.结果表明,在相同磨削条件下,磨粒叶序排布砂轮磨削工件表面的最高温度相较于其他3种排布形式最低.
李雨菲吕玉山刘新伟殷际东赵国伟李伟凡
关键词:缓进给磨削磨削温度
微磨削斜面光纤透镜平面度试验研究被引量:1
2017年
为了研究微磨削参数对斜面光纤透镜平面度的影响,减小微磨削方法加工斜面光纤透镜的平面度误差,采用正交试验法对直径Ф125μm单模光纤的30°斜面光纤透镜的微磨削进行了试验。结合微磨削的磨削力模型和材料力学弹性梁变形理论,分析微磨削过程中随着磨削用量的变化所导致的光纤透镜被磨削斜面的平面度的变化规律。理论分析和实验结果表明:光纤悬伸长度对斜面光纤透镜平面度的影响最大,增大光纤悬伸长度将导致较大的斜面光纤透镜平面度的轮廓误差,恰当的磨削用量组合能够获得较小的平面轮廓误差。通过试验磨削出了平面度误差为3μm的30°斜面光纤透镜。
刘新伟吕玉山殷际东李伟凡李雨菲赵国伟
关键词:平面度
光纤端面透镜微磨削加工角度试验研究
2016年
光纤端面透镜是重要的耦合器件之一,而光纤端面透镜的形状是影响光纤耦合的主要原因。文章在分析传统光纤透镜传统加工技术的基础上,提出了用微磨削加工光纤透镜的方法。并着重对光纤在磨削过程中角度的变形进行研究。该试验利用125μm的单模光纤进行磨削实验,通过力学分析光纤在加工过程中进给速度、主轴转数、悬伸长度等因素对光纤加工角度的影响。试验结果表明使用微磨削加工光纤端面透镜,在一定范围内光纤的悬伸长度、进给速度与角度成正相关关系,主轴速度与光纤角度成负相关关系。
陈兵舒启林刘新伟
关键词:光纤耦合单模光纤
碘化铯晶体的水解抛光实验研究被引量:1
2017年
为获得具有超光滑表面的碘化铯(CsI(TI))基片,需对其表面进行抛光加工处理。利用CsI(TI)晶体的水解特性和化学机械抛光理论,提出对CsI(TI)采用水解抛光的加工方法。通过改变抛光加工中的工艺参数,即抛光液配比、转速和压强进行实验,获得水解抛光CsI(TI)晶体的抛光机制及表面粗糙度Ra与材料去除率随加工用量的变化规律。
殷际东吕玉山刘新伟李伟凡李雨菲赵国伟
关键词:粗糙度去除率
共1页<1>
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