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王国锋

作品数：1 被引量：9H指数：1
供职机构：华中科技大学材料科学与工程学院材料成形与模具技术国家重点实验室更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇性能研究
  • 1篇透光导电膜
  • 1篇透明导电
  • 1篇透明导电膜
  • 1篇透射
  • 1篇透射率
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 1篇华中科技大学
  • 1篇深圳大学

作者

  • 1篇贾芳
  • 1篇李世涛
  • 1篇乔学亮
  • 1篇陈建国
  • 1篇王国锋

传媒

  • 1篇光电工程

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁控溅射制备AZO/Ag/AZO透明导电膜的性能研究被引量：9
2007年
选择ZnO2与Al2O3质量比为97:3的靶材为溅射源,用射频磁控溅射法室温下在玻璃基底上沉积AZO/Ag/AZO薄膜,讨论了氧流量变化对薄膜透光率、方阻及表面形貌的影响并深入分析了机理。研究结果表明,氧流量变化会导致薄膜沉积厚度的变化,氧流量为4时薄膜沉积速率最快。沉积AZO时充入氧气会使整个膜系的透光率不随Ag层增厚明显降低,并且会使膜系的方阻降低。在最优氧流量为4L/min(标准状态下,下同)上下各沉积59nm的AZO与氧流量为0时沉积33nm银层相匹配的复合膜在可见光区(包括基底)的透光率达到90%,方阻为2.5Ω/ □。
贾芳乔学亮陈建国李世涛王国锋
关键词：磁控溅射透光导电膜透射率
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共1页<1>
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