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赵东磊

作品数：1 被引量：10H指数：1
供职机构：河北工业大学信息工程学院更多>>
发文基金：国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇溶胶
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米SIO
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇碱性
  • 1篇PH值

机构

  • 1篇河北工业大学
  • 1篇河北化工医药...

作者

  • 1篇刘效岩
  • 1篇刘玉岭
  • 1篇赵之雯
  • 1篇胡轶
  • 1篇赵东磊
  • 1篇梁艳

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
碱性纳米SiO_2溶胶在化学机械抛光中的功能被引量：10
2010年
纳米SiO2是一种性能优越的功能材料,化学机械抛光(CMP)过程的精确控制在很大程度上取决于对纳米SiO2功能的认识。但是目前对碱性纳米SiO2在CMP过程中的功能还没有完全弄清楚,探讨它在CMP中作用是提高CMP技术水平的前提。纳米SiO2溶胶的表面效应使其表面存在大量的羟基,在CMP过程中纳米SiO2表面羟基与碱反应生成硅酸负离子,硅酸负离子再与硅反应来降低纳米SiO2的表面能量,同时达到除去硅的目的。综上所述,碱性纳米SiO2在CMP的过程中不仅起到了磨料的作用,同时参加了化学反应,在此基础上提出了在碱性条件下纳米SiO2与硅的反应机理。
刘效岩刘玉岭梁艳赵之雯胡轶赵东磊
关键词：化学机械抛光PH值
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共1页<1>
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