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朱晓龙

作品数:1 被引量:4H指数:1
供职机构:西南民族大学电气信息工程学院更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇带隙
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体结构
  • 1篇宽光谱
  • 1篇光谱
  • 1篇光学
  • 1篇光学常数
  • 1篇光学带隙
  • 1篇HFO2薄膜

机构

  • 1篇西南民族大学
  • 1篇西南技术物理...

作者

  • 1篇马孜
  • 1篇肖峻
  • 1篇朱晓龙

传媒

  • 1篇激光与光电子...

年份

  • 1篇2016
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
氧化铪薄膜的宽光谱光学特性研究被引量:4
2016年
利用考夫曼离子源辅助电子束蒸发(IBAD)在K9玻璃上制备了HfO2薄膜。采用DX-2000型X射线衍射仪fXRD)对薄膜晶体结构进行分析得知制备的薄膜呈现单斜晶相结构。采用SE850宽谱变角度反射式光谱型椭偏仪对薄膜在280—2500nm波段的椭偏参数进行测量,光谱拟合中考虑了界面层和表面粗糙层,分别采用Cauchy模型、Tauc—Lorentz模型、Forouhi-Bloomer模型、Sellmeier-Transparent模型进行分析,得到薄膜紫外至近红外波段光学参数。椭偏拟合结果表明Tauc-Lorentz模型最符合HfO2薄膜光学特性,光谱曲线的拟合值与理论值最接近,均方根误差(MSE)为0.57。利用Lumda950分光光度计测量薄膜透射率并计算出HfO2薄膜光学带隙(-5.40eV)。
朱晓龙肖峻马孜
关键词:HFO2薄膜晶体结构光学常数光学带隙
共1页<1>
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