您的位置: 专家智库 > >

周健

作品数:2 被引量:18H指数:2
供职机构:河北大学化学与环境科学学院更多>>
发文基金:河北省教育厅博士基金河北大学研究基金资助更多>>
相关领域:电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氧化硅
  • 1篇原位
  • 1篇原位改性
  • 1篇疏水
  • 1篇疏水性
  • 1篇羟基硅油
  • 1篇激发光谱
  • 1篇光谱
  • 1篇硅油
  • 1篇二氧化硅
  • 1篇发光
  • 1篇发射光谱
  • 1篇改性
  • 1篇改性制备
  • 1篇SR2MGS...
  • 1篇EU2
  • 1篇LN
  • 1篇长余辉
  • 1篇沉淀二氧化硅

机构

  • 2篇河北大学

作者

  • 2篇周健
  • 1篇孟媛
  • 1篇马志领
  • 1篇翟永清
  • 1篇郝学辉
  • 1篇曹丽莉
  • 1篇何佳音

传媒

  • 1篇无机盐工业
  • 1篇材料导报

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
羟基硅油原位改性制备疏水性沉淀二氧化硅被引量:9
2011年
采用羟基硅油原位改性制备疏水性沉淀二氧化硅。红外光谱(FT-IR)分析表明,羟基硅油通过化学键接枝到二氧化硅表面。扫描电镜(SEM)分析表明,原位改性改善了沉淀二氧化硅的团聚现象,使之分散性提高,与有机基体聚丙烯树脂的相容性增大。疏水性测试表明,羟基硅油203-B和203-D的用量(羟基硅油与原料中二氧化硅的质量比)达到17.9%时,疏水度分别达到24.59%和22.17%,羟基硅油相对分子质量越小,羟基含量越高,改性效果越明显。原位改性使沉淀二氧化硅吸油率降低。
马志领郝学辉何佳音周健
关键词:沉淀二氧化硅羟基硅油原位改性疏水性
蓝色长余辉发光材料Sr_2MgSi_2O_7:Eu^(2+),Ln^(3+)的合成和性质被引量:9
2007年
采用凝胶-燃烧法合成了系列稀土掺杂的Sr2MgSi2O7:Eu20.+02,Ln30.+04(Ln=La,Ce,Nd,Sm,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm)蓝色长余辉发光材料,用X射线粉末衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、荧光分光光度计等对合成产物进行了分析和表征。结果表明:掺杂了不同稀土离子的Sr2MgSi2O7:Eu2+,Ln3+的晶体结构均为四方晶系结构;其激发、发射光谱的峰形、峰位基本无变化,激发光谱为一宽带,最大激发峰位于402nm处,次激发峰位于415nm处,与高温固相法制得的样品相比,激发峰发生了明显的红移;发射光谱也为一宽带,最大发射峰位于468nm附近,是由典型的Eu2+的4f5d-4f跃迁导致的,不同之处在于其激发光谱、发射光谱强度与余辉性质有所差别,其中Dy3+是最理想的共掺杂稀土离子,Sr2MgSi2O7:Eu2+,Dy3+的亮度最高、余辉时间最长,可达5h以上;而Sr2MgSi2O7:Eu2+,Sm3+的发光强度最低,余辉时间最短。
翟永清孟媛曹丽莉周健
关键词:激发光谱发射光谱长余辉
共1页<1>
聚类工具0