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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇多层膜
  • 1篇多层膜结构
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇数对
  • 1篇纳米
  • 1篇溅射
  • 1篇ZRB
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇天津师范大学

作者

  • 1篇刘思鹏
  • 1篇乔林
  • 1篇李德军
  • 1篇亢原彬
  • 1篇董磊
  • 1篇邓湘云
  • 1篇陈宗强

传媒

  • 1篇天津师范大学...

年份

  • 1篇2008
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
磁控溅射参数对ZrB_2/ZrAlN纳米多层膜结构和性能的影响被引量:1
2008年
选择ZrB2和ZrAlN作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统在80 nm调制周期下,制备了一系列ZrB2/ZrAlN纳米多层膜,用XRD、表面轮廓仪和纳米力学测试系统分析了物相及晶体结构.研究表明:纳米多层膜体系的各项性能随着Ar/N2流量比例的变化而变化,多层膜的纳米硬度值和弹性模量均高于两种个体材料混合相的硬度值,残余应力也得到缓解,合适的N2气分压可以使多层膜体系的机械性能达到最佳.
亢原彬董磊刘思鹏乔林陈宗强邓湘云李德军
关键词:射频磁控溅射
共1页<1>
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