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王海丽

作品数：7 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院半导体研究所更多>>
相关领域：理学金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 5篇刻蚀
  • 5篇激光
  • 5篇激光器
  • 5篇光栅
  • 4篇紫外纳米压印
  • 4篇外延片
  • 4篇纳米
  • 4篇纳米压印
  • 2篇底板
  • 2篇燕尾槽
  • 2篇透镜
  • 2篇微小形变
  • 2篇螺丝
  • 2篇光纤
  • 2篇光纤耦合
  • 1篇反馈激光器
  • 1篇分布反馈激光...
  • 1篇干法刻蚀
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体激光

机构

  • 7篇中国科学院

作者

  • 7篇马骁宇
  • 7篇刘素平
  • 7篇王海丽
  • 5篇赵懿昊
  • 4篇仲莉
  • 4篇张奇
  • 4篇王文知
  • 2篇王鑫
  • 2篇王翠鸾
  • 1篇井红旗

传媒

  • 1篇半导体光电

年份

  • 2篇2019
  • 2篇2017
  • 3篇2016
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器
一种基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器，该方法包括：通过紫外纳米压印工艺，在外延片表面涂覆的光刻胶上压印出光栅图形；将压印好的外延片送入电感耦合等离子体(ICP)设备的反应腔室中进行一次刻蚀，反应气体为C...
王海丽赵懿昊张奇王文知仲莉刘素平马骁宇
文献传递
光纤耦合慢轴夹具装置
本发明提供一种光纤耦合慢轴夹具装置，包括：两支架，该两支架概似Y形；一底板，该底板为矩形，其上开有一燕尾槽，该底板燕尾槽的两侧分别与两Y形支架的其中一端固定连接；一滑块，该滑块是一燕尾块，与底板上的燕尾槽滑动配合，该滑块...
王文知王翠鸾王鑫王海丽刘素平马骁宇
光纤耦合慢轴夹具装置
本发明提供一种光纤耦合慢轴夹具装置，包括：两支架，该两支架概似Y形；一底板，该底板为矩形，其上开有一燕尾槽，该底板燕尾槽的两侧分别与两Y形支架的其中一端固定连接；一滑块，该滑块是一燕尾块，与底板上的燕尾槽滑动配合，该滑块...
王文知王翠鸾王鑫王海丽刘素平马骁宇
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基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器
一种基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器，该方法包括：通过紫外纳米压印技术在GaInP材料上压印出光栅图形；将压印好的样品送入ICP设备中，进行一次刻蚀，反应气体为CH<Sub>4</Sub>/H<Sub>...
王海丽赵懿昊张奇仲莉刘素平马骁宇
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基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器
一种基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器，该方法包括：通过紫外纳米压印工艺，在外延片表面涂覆的光刻胶上压印出光栅图形；将压印好的外延片送入电感耦合等离子体(ICP)设备的反应腔室中进行一次刻蚀，反应气体为C...
王海丽赵懿昊张奇王文知仲莉刘素平马骁宇
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基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器
一种基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器，该方法包括：通过紫外纳米压印技术在GaInP材料上压印出光栅图形；将压印好的样品送入ICP设备中，进行一次刻蚀，反应气体为CH<Sub>4</Sub>/H<Sub>...
王海丽赵懿昊张奇仲莉刘素平马骁宇
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975nm分布反馈激光器一级光栅的制备被引量：1
2017年
优化设计了975nm分布反馈激光器的一级布拉格光栅结构。将纳米压印技术与干法刻蚀工艺相结合制备周期为148nm的光栅结构,通过优化调整刻蚀气体流量比、腔室压强和偏压功率等参数,得到了合适的光栅刻蚀工艺参数。扫描电子显微镜测试显示,光栅周期为148nm,占空比接近50%,深度合适,表面形貌、连续性和均匀性良好。将所制备光栅应用于975nm分布反馈激光器中,激光器输出性能良好,波长随温度漂移系数小,光栅对波长的锁定效果良好。
王海丽井红旗赵懿昊刘素平马骁宇
关键词：半导体激光器干法刻蚀
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