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郑玉祥

作品数:15 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院上海技术物理研究所更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 11篇专利
  • 4篇会议论文

领域

  • 4篇理学
  • 2篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 7篇膜系
  • 6篇偏振
  • 6篇光学
  • 5篇遥感
  • 5篇薄膜生长
  • 4篇位相
  • 3篇调制
  • 3篇遥感仪
  • 3篇遥感仪器
  • 3篇偏振状态
  • 3篇起偏器
  • 3篇准直
  • 3篇线偏振
  • 3篇光调制
  • 3篇光学常数
  • 3篇反演
  • 2篇导纳
  • 2篇透过率
  • 2篇全内反射
  • 2篇自动补偿

机构

  • 13篇中国科学院
  • 2篇教育部

作者

  • 15篇郑玉祥
  • 13篇蔡清元
  • 12篇刘定权
  • 10篇罗海瀚
  • 4篇丛蕊
  • 4篇周靖
  • 3篇刘宝丽
  • 3篇冯旗
  • 3篇冯鑫
  • 3篇段微波
  • 2篇陈良尧
  • 2篇李大琪
  • 2篇陈刚
  • 2篇张冬旭
  • 2篇余德明
  • 2篇陈良尧
  • 1篇于天燕
  • 1篇周明
  • 1篇秦杨
  • 1篇王曙光

传媒

  • 1篇第16届全国...

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2023
  • 1篇2018
  • 3篇2016
  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 2篇2011
15 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种基于全内反射偏振位相差测量来监控薄膜生长的方法
本发明公开了一种基于全内反射偏振位相差测量来监控薄膜生长的方法,属于薄膜生长光学监控技术领域。本发明以入射光的偏振位相差变化为测量目标,反映了薄膜生长过程中光学特性的变化,建立光信号与膜层厚度的对应关系,完成薄膜生长的监...
蔡清元刘定权罗海瀚郑玉祥陈刚张冬旭胡二涛
文献传递
金属钛超薄膜介电常数随厚度的变化研究
胡二涛张荣君蔡清元王子仪许骥平郑玉祥王松有陈良尧
一种用于玻璃基薄膜椭圆偏振测量的样品安装装置
本发明公开了一种用于玻璃基薄膜椭圆偏振测量的样品安装装置,属于光学测量技术领域。该装置从上至下依次包括薄膜、玻璃基片、折射率匹配液以及楔形玻璃片。玻璃基片镀制了薄膜,构成待测量样品;玻璃基片与楔形玻璃片通过折射率匹配液结...
蔡清元高凌山杨雨婷胡二涛刘保剑马冲刘定权罗海瀚段微波于天燕郑玉祥张秋玉
一种介质金属膜堆的低偏振灵敏度分色膜的制作方法
本发明公开了一种介质金属膜堆的低偏振灵敏度分色膜的制作方法,首先基于介质-金属-介质结构的膜堆组合,通过光学导纳技术来确定初步的光学薄膜设计;通过光学薄膜设计软件进行膜系微调和优化,使膜系结构方便监控制作;对基片进行清洗...
蔡清元刘定权郑玉祥周靖罗海瀚丛蕊秦杨王曙光刘保剑
文献传递
硅纳米晶光学常数对温度的响应研究
硅纳米晶(nc-Si)是一种很有应用前景的频率可调谐发光纳米材料,针对其光学性质的研究将有助于理解其发光机制。椭偏测量技术是一种非接触非破坏性的测量手段,被广泛用于材料光学性质的测量。已知退火温度对硅纳米晶的发光效率有很...
林崴郑玉祥蔡清元张冬旭张荣君陈良尧
关键词:光学常数硅纳米晶
文献传递
光学极值法监控薄膜生长的误差控制研究
蔡清元刘定权郑玉祥罗海瀚周明陈良尧
一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法
本发明公开了一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法,涉及光学薄膜技术领域。其包括步骤:制备Si膜层和SiO<Sub>2</Sub>膜层,获取所述膜层的第一光学厚度,进行退火处理;获取经退火处理后的Si膜层和SiO<...
刘保剑段微波郑玉祥李大琪余德明蔡清元刘定权
一种测量遥感仪器的线偏振灵敏度的装置及方法
本发明公开了一种测量遥感仪器的线偏振灵敏度的装置及方法。该测量装置包括光源、准直透镜组、第一起偏器、第二起偏器、光电探测器、保偏扩束镜和遥感仪器。光束经由两个起偏器进行线偏振光调制,从而检测遥感仪器的线偏振灵敏度。所述测...
蔡清元冯旗刘定权刘宝丽罗海瀚冯鑫周靖郑玉祥丛蕊刘保剑
文献传递
一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法
本发明公开了一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法,属于薄膜生长光学监控技术领域。该方法建立了一种有别于导纳追迹方式的光学监控追迹方式,以膜系透射率的倒数及膜层等效位相厚度同时作为追迹对象,可以在监控过程中实时看到薄...
蔡清元郑玉祥刘定权罗海瀚
文献传递
一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法
本发明公开了一种用于空间遥感系统的近红外滤光片的制作方法,涉及光学薄膜技术领域。其包括步骤:制备Si膜层和SiO<Sub>2</Sub>膜层,获取所述膜层的第一光学厚度,进行退火处理;获取经退火处理后的Si膜层和SiO<...
刘保剑段微波郑玉祥李大琪余德明蔡清元刘定权
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