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刘强

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：北京信息科技大学理学院更多>>
发文基金：北京市自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇散射
  • 1篇CARLO模...
  • 1篇MONTE

机构

  • 1篇北京信息科技...

作者

  • 1篇于肇贤
  • 1篇刘强

传媒

  • 1篇北京信息科技...

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
低能电子束曝光的散射研究被引量：2
2010年
采用Mott弹性散射截面和Monte Carlo计算方法进行模拟,将Joy和Lou的Bethe修正公式作为解决能量损失问题的非弹性散射模型。描述电子束入射固体过程,确定散射角、方位角、自由程和散射点处能量等参数。利用能量不超过5keV的低能电子束,模拟在不同厚度的抗蚀剂中进行的刻蚀过程,得到了不同能量电子束在衬底表面光刻的最佳抗蚀剂厚度。
刘强于肇贤
关键词：MONTECARLO模拟
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