朱杰
- 作品数：59 被引量：97H指数：6
- 供职机构：同济大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划上海市科委科技攻关项目更多>>
- 相关领域：理学机械工程核科学技术一般工业技术更多>>
- BSRF-3B3束流位置监测系统的研制被引量：2
- 2008年
- 光斑的绝对位置和强度是同步辐射光束线性能的重要参数,本文研制的双丝XBPM系统既可以监测束流的稳定性,又可以探测光斑的形状、光强的分布。详细介绍了该系统的物理设计思想和机械设计要求,阐述了其光学设计原理,并对局部B轨参数的调整和垂直光斑绝对位置及光斑半高全宽FWHM测量的实验过程进行了详细介绍和分析。自行研制的XBPM系统顺利地完成了对光束强度的扫描和对光斑绝对位置的信息传递任务,指导了局部B轨参数的调整。
- 赵佳崔明启赵屹东田玉莲周克瑾郑雷朱杰陈凯马陈燕
- 关键词：束流位置监测器双丝
- 一种获取超光滑表面低亚表面损伤晶体的方法
- 本发明涉及一种获取超光滑表面低亚表面损伤晶体的方法，包括以下步骤：(1)使用规格为W1的碳化硼作为磨料在铸铁盘上对晶体进行研磨；(2)使用粒径为1μm的氧化铈抛光液在沥青盘上对晶体进行抛光；(3)将晶体表面浸入有机溶剂中...
- 朱杰张志萌王占山
- 文献传递
- 软X射线激光用分束镜研制被引量：6
- 2003年
- 软X射线干涉测量是通过软X射线激光经过Mach-zehnder干涉仪完成的,是测量临界面附近等离子体状态的重要方法。基于软X射线多层膜的性能特点,指出软X射线干涉测量的干涉仪各光学元件的入射角越接近正入射越好,分束镜的设计应以其反射率和透过率的乘积为衡量标准。用离子束溅射法制作了类镍银13.9 nm软X射线激光干涉测量所需的分束镜,实测表明其面形精度达到纳米量级,反射率和透过率乘积大于1.6％。
- 王占山吴永刚唐伟星秦树基陈玲燕徐向东洪义麟付绍军朱杰崔明启
- 关键词：软X射线激光多层膜等离子体
- 一种基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法
- 本发明涉及一种基于铝盐络合物的氟化钙单晶抛光方法，包括以下步骤：对氟化钙单晶进行研磨处理；利用第一抛光液对研磨后的氟化钙单晶进行抛光，并在抛光过程中以设定间隔时间对氟化钙单晶进行超声波清洗；第一抛光液为由掺有纳米级铝盐、...
- 朱杰姬梦王占山
- 文献传递
- VUV/EUV标准探测器装置和传输标准探测器的标定被引量：1
- 2005年
- 对研制的安装在合肥国家同步辐射实验室(NSRL)计量光束线上的VUV/EUV标准探测器装置进行了传输标准探测器的首次标定工作.实验选取了3个能点17.625nm,6.8nm和92nm,在这3个能点处分别标定光电二极管,得到其相应的量子效率.结果表明在同一能点多次标定结果的重复一致性很好,相对标准偏差在1%—14%的水平;但是与美国国家标准计量局(NIST)标定过的光电二极管的量子效率比较,短波17.625nm的标定结果较好,而6.8nm和92nm波长的结果差距偏大.偏差主要来自光源稳定性和光谱纯净度的影响.
- 郑雷崔明启赵屹东朱杰周克瑾陈凯赵佳孙立娟马陈燕周洪军霍同林
- 关键词：EUVVUV合肥国家同步辐射实验室相对标准偏差量子效率光束线
- 软X射线多层膜反射式偏振光学元件设计被引量：10
- 2003年
- 叙述了软X射线波段反射式多层膜起偏器和检偏器的设计原则和设计方法,计算了不同波段软X射线反射式多层膜起偏器和检偏器的性能,讨论了多层膜制作过程中,表界面误差(表面粗糙度和扩散)对起偏器和检偏器性能的影响,探讨了光谱分辨率对偏振元件测试过程的影响,这些设计、计算和分析为制作实用软X射线多层膜偏振光学元件提供了理论基础。
- 王洪昌王占山李佛生陈玲燕朱杰崔明启
- 关键词：软X射线多层膜偏振光学元件
- SR软X射线偏振元件及光源偏振特性研究
- 偏振特性是同步辐射光源优异特性之一,国际上利用同步辐射X射线偏振特性在生物、化学、物理、材料以及计量科学等领域开展了广泛的研究.随着国内对同步辐射应用研究的不断发展,越来越多的研究领域也需要应用到同步辐射的偏振特性(尤其...
- 朱杰
- 关键词：软X射线偏振特性
- 文献传递
- 一种用于晶体测定的可调夹持工具
- 本发明涉及一种用于晶体测定的可调夹持工具，包括底座、设于底座上的支柱、安装在支柱上部的L型支架、设于L型支架末端的样品盘，样品盘与L型支架旋转连接，样品盘设有多个用于夹持待测晶体的紧固件。本发明结构简单，加工便利，可以适...
- 朱杰姬梦王占山
- 文献传递
- 学生成绩管理系统
- 学生成绩管理是各类学校教务管理的一个主要环节，高校学生成绩管理是学籍管理的重要组成部分。在成绩管理过程中涉及的信息种类繁多，数量庞大。例如，每一个学生来自什么系别，不同学期各门课程成绩如何，以及各科任课教师是谁等都是成绩...
- 朱杰
- 关键词：程序代码学生成绩管理教务管理
- 软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析被引量：14
- 2003年
- 由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素 ,导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率 ,因此 ,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域 ,采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度 ,利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo/Si多层膜的反射率曲线进行拟合 ,得到了非常好的拟合结果 ,从而确定了多层膜结构参量 ,同时分析了多层膜周期厚度 ,厚度比率 ,界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响 ,这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据。
- 王洪昌王占山秦树基李佛生陈玲燕朱杰崔明启
- 关键词：薄膜光学软X射线光谱分辨率
