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王辉

作品数:3 被引量:7H指数:2
供职机构:河南科技大学物理与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇特性分析
  • 1篇透过率
  • 1篇透射
  • 1篇透射率
  • 1篇纳米
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇金属有机化学...
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇光学
  • 1篇光学特性
  • 1篇NIO
  • 1篇ZNO
  • 1篇MOCVD法
  • 1篇ZNO薄膜

机构

  • 3篇吉林大学
  • 3篇河南科技大学
  • 1篇大连理工大学

作者

  • 3篇王辉
  • 2篇赵洋
  • 2篇王瑾
  • 2篇赵龙
  • 2篇王辉
  • 1篇杨传径
  • 1篇夏晓川
  • 1篇陈庆东
  • 1篇史志峰
  • 1篇汤正新
  • 1篇刘才龙
  • 1篇马艳
  • 1篇史志锋
  • 1篇董鑫
  • 1篇杜国同
  • 1篇赵旺

传媒

  • 2篇河南科技大学...
  • 1篇高等学校化学...

年份

  • 2篇2011
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
金刚石纳米粉引晶方法制备金刚石薄膜方法
2010年
利用金刚石纳米粉引晶法和常规研磨方法分别在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜,并采用扫描电镜、激光拉曼方法对所制备样品进行表征,通过SEM和拉曼谱分析,与研磨法生长金刚石薄膜相比,利用金刚石纳米粉引晶方法可以大大提高金刚石薄膜的成核速度,生长速率达到2μm/h以上。对相同碳源浓度下生长的金刚石薄膜样品的SEM和拉曼谱分析,采用引晶法生长的金刚石薄膜质量明显高于研磨法。
陈庆东杨传径王辉刘才龙
关键词:金刚石薄膜
基于MOCVD法制备的NiO薄膜结构与光学特性被引量:3
2011年
用金属有机化学气相沉积法在Si衬底上制备了NiO薄膜。分别采用X光电子能谱、电子显微镜、X射线衍射以及紫外-可见分光光度计对样品的结构和光学特性进行测试。X光电子能谱测试结果表明:薄膜中Ni元素以二价态存在,Ni与O比值接近1∶1,表明制备的样品为NiO薄膜;电子显微镜和X射线衍射分析显示NiO薄膜呈现多晶态;紫外-可见分光光度计测试结果显示:NiO薄膜具有高透过率,400 nm附近最高透过率为96%,通过线性外推法作图得到NiO薄膜的禁带宽度在3.7 eV左右。
赵洋赵龙王辉王辉汤正新王瑾
关键词:透射率
金属有机化学气相沉积法制备ZnO和ZnO:Ni薄膜及其特性分析被引量:4
2011年
采用金属有机化学气相沉积法制备了ZnO和ZnO∶Ni薄膜,并对它们的结构、光学和电学特性进行了对比研究.通过扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射(XRD)对薄膜的表面形貌和晶体结构进行了分析,结果表明,Ni元素的掺杂虽然降低了薄膜的晶体质量,但并未改变ZnO的纤锌矿结构.通过紫外-可见分光光度计对薄膜的光学特性进行了测试与分析,结果表明,ZnO∶Ni薄膜在可见光区的平均透过率可达90%,优于ZnO薄膜在可见光区的平均透过率(85%).霍尔(Hall)测试显示ZnO∶Ni薄膜的导电类型仍为n型,但其电阻率已经明显增加,载流子浓度也远低于未掺杂ZnO薄膜的载流子浓度,说明Ni元素的掺杂对ZnO薄膜的特性产生了很大影响.
王辉王辉王瑾赵洋赵龙赵旺史志锋夏晓川马艳杜国同
关键词:ZNO薄膜金属有机化学气相沉积透过率
共1页<1>
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