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高卓

作品数：5 被引量：10H指数：1
供职机构：北京工业大学更多>>
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共 12 条 记 录，以下是 1-10
胡跃辉
供职机构：景德镇陶瓷大学机械电子工程学院
研究主题：ZNO薄膜 氢化非晶硅 氢化非晶硅薄膜 溶胶-凝胶法 氢含量
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈光华
供职机构：北京工业大学材料科学与工程学院
研究主题：金刚石薄膜 立方氮化硼 立方氮化硼薄膜 CVD 金刚石
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴越颖
供职机构：北京工业大学材料科学与工程学院
研究主题：A-SI:H薄膜 热丝 氢化非晶硅薄膜 光敏性 红外透射谱
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王青
供职机构：北京工业大学
研究主题：光探测器 单片集成 垂直腔面发射激光器 PHEMT 长波长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋雪梅
供职机构：北京工业大学
研究主题：SUB 衬底温度 衬底 工作气压 太阳能电池
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
阴生毅
供职机构：中国科学院电子学研究所
研究主题：阴极 扩散阴极 氢含量 浸渍 氢化非晶硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
荣延栋
供职机构：北京工业大学
研究主题：A-SI:H薄膜 光敏性 A-SI:H 热丝 氢化非晶硅薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李瀛
供职机构：北京工业大学材料科学与工程学院新型功能材料教育部重点实验室
研究主题：CVD法 氢化非晶硅薄膜 A-SI:H薄膜 A-SI:H 热丝
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邓金祥
供职机构：北京工业大学
研究主题：立方氮化硼薄膜 氮化硼薄膜 立方氮化硼 射频溅射 射频磁控溅射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱秀红
供职机构：西北大学
研究主题：氢化非晶硅 氢化非晶硅薄膜 氢含量 A-SI:H 光敏性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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