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王伟军

作品数：34 被引量：0H指数：0
供职机构：上海集成电路研发中心更多>>
相关领域：电子电信文化科学交通运输工程自动化与计算机技术更多>>

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地区

  • 15个上海市
共 15 条 记 录，以下是 1-10
林宏
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：空气隙 填充金属 铜互连 硅片 金属互连线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李铭
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 光刻 刻蚀 衬底 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康晓旭
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：像元 红外探测器 衬底 牺牲层 微桥结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姚嫦娲
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：刻蚀 刻蚀工艺 互连 空气隙 通孔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄仁东
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：刻蚀 金属栅 金属 淀积 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡正军
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 清洗方法 干法刻蚀 二氧化硅 介电材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁超
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：牺牲层 空气隙 MEMS麦克风 振动膜 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
奚鹏程
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：串联电阻 浮体效应 自加热效应 刻蚀 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾绍海
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 刻蚀 衬底 侧墙 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨冰
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：传感器结构 图像传感器 隔离层 金属电极 量子点
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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