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陆东赛

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

领域

  • 4个化学工程
  • 4个电子电信
  • 3个一般工业技术
  • 2个机械工程
  • 2个文化科学
  • 1个理学

主题

  • 3个源流
  • 3个载气
  • 3个沾污
  • 2个单晶
  • 2个低层
  • 2个低电阻率
  • 2个电机
  • 2个电机驱动
  • 2个电路
  • 2个电阻率
  • 2个淀积
  • 2个氧化层
  • 2个氧化物半导体
  • 2个易剥离
  • 2个有效面积
  • 2个原位复合
  • 2个原位生长
  • 2个原位修复
  • 2个圆片
  • 2个载流子

机构

  • 4个中国电子科技...

资助

  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个国家部委预研...

传媒

  • 1个半导体技术
  • 1个人工晶体学报
  • 1个第十五届全国...

地区

  • 4个江苏省
共 4 条 记 录，以下是 1-4
尹志军
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题：超晶格结构 超晶格 层数 GAAS衬底 半导体薄膜材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵志飞
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题：碳化硅 外延层 外延片 硅外延 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱志明
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题：硅衬底 碳化硅薄膜 载气 超晶格 层数
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李赟
供职机构：中国电子科技集团公司第五十五研究所
研究主题：碳化硅 外延片 硅外延 外延层 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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