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高文泉

作品数：5 被引量：5H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
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合作作者

领域

  • 10个电子电信
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主题

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机构

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资助

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传媒

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  • 2个微细加工技术
  • 1个机械工程学报
  • 1个集成电路应用
  • 1个计算机测量与...
共 10 条 记 录，以下是 1-10
徐存良
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 CMP设备 RCA 湿法清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 大盘 温度 水压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭强生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：粘片机 集成电路 视觉检测 发光二极管 伺服控制系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
丁彭刚
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：PID控制 多线切割机 同步控制 切割机 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
詹阳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 抛光垫 承载器 ZETA电位
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈威
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 300MM硅片 有限元模型 有限元分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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