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于高洋

作品数：4 被引量：8H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
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合作作者

领域

  • 6个电子电信
  • 1个经济管理
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  • 1个建筑科学
  • 1个一般工业技术
  • 1个理学

主题

  • 4个晶圆
  • 3个抛光
  • 3个浅沟道隔离
  • 3个化学机械抛光
  • 3个机械抛光
  • 3个沟道
  • 3个半导体
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  • 2个压力控制
  • 2个氧化铈
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  • 2个抛光液
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  • 2个企业标准体系
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  • 2个晶体

机构

  • 6个中国电子科技...
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  • 1个电子工业部
  • 1个电子部
  • 1个信息产业部
  • 1个《电子工业专...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中电科技集团...
  • 1个机电部

资助

  • 1个国家高技术研...
  • 1个北京市教育委...
  • 1个电子信息产业...

传媒

  • 6个电子工业专用...
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  • 1个中国电子商情...
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  • 1个微纳电子技术
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  • 1个第十二届全国...
  • 1个第十三届全国...
  • 1个第十一届全国...
共 6 条 记 录，以下是 1-6
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
童志义
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：光学光刻 集成电路 光刻 硅 CMP
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刘涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 泵头 蠕动泵 压力控制 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶利权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：点焊技术 半导体 晶体材料 微电子 自动切割机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李燕玲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：硅晶圆 激光划片 划片 砂轮 硅
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杨晓静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：C/S与B/S模式 C/S模式 B/S模式 控制柜 接线图
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