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杨元元

作品数：7 被引量：15H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

  • 9个电子电信
  • 4个自动化与计算...
  • 3个机械工程
  • 2个建筑科学
  • 1个一般工业技术

主题

  • 8个化学机械抛光
  • 8个机械抛光
  • 8个CMP
  • 7个抛光
  • 6个平坦化
  • 6个晶圆
  • 6个化学机械平坦...
  • 6个半导体
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  • 4个电路
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  • 4个兆声清洗
  • 4个抛光垫
  • 4个集成电路
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  • 3个扫描电子显微...
  • 3个碳化硅
  • 3个通风

机构

  • 9个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个电子工业部
  • 1个中华人民共和...

资助

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  • 2个国家科技重大...
  • 2个北京市教育委...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个中国博士后科...
  • 1个电子信息产业...
  • 1个中央高校基本...

传媒

  • 9个电子工业专用...
  • 3个微纳电子技术
  • 2个半导体技术
  • 2个微细加工技术
  • 2个计算机测量与...
  • 1个机械工程学报
  • 1个集成电路应用
共 9 条 记 录，以下是 1-9
杨师
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 集成电路 SEMI 半导体制造设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史霄
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP CMP技术 氮化镓 晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
詹阳
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 抛光垫 承载器 ZETA电位
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周国安
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 化学机械抛光 抛光液 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴旭
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：多线切割机 伺服电机 闭环控制 DXF文件 DXF
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
费玖海
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 温度控制 CMP工艺 PG
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王洪宇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：机械手 传输系统 硅片 机械手设计 LTCC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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