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吴会旺

作品数：43 被引量：14H指数：2
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信文化科学化学工程自动化与计算机技术更多>>

合作作者

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地区

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共 15 条 记 录，以下是 1-10
赵丽霞
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 互连线 外延层 衬底 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈秉克
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 外延层 衬底 硅外延 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁肇耿
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 硅外延片 硅外延 外延层 电阻率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛宏伟
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 硅外延片 电阻率 衬底 均匀性
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刘英斌
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：碳化硅单晶 碳化硅 SIMS SIC PVT
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王毅
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：高纯 色度 测色 半定量 反应器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
肖凌
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：测试装置 测试台 半导体晶片 半导体 下表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张志勤
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：外延片 电阻率 衬底 薄层 硅外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高国智
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：硅外延片 外延片 外延层 外延炉 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高淑红
供职机构：河北普兴电子科技股份有限公司
研究主题：衬底 掺磷 磷掺杂 外延层生长 失配
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