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刘昕阳

作品数：4 被引量：0H指数：0
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合作作者

领域

  • 7个电子电信
  • 3个自动化与计算...
  • 1个金属学及工艺

主题

  • 6个刻蚀
  • 6个光刻
  • 6个二极管
  • 6个VDMOS器...
  • 5个湿法
  • 5个湿法刻蚀
  • 5个双阈值
  • 5个阻挡层
  • 5个阈值
  • 5个阈值电压
  • 5个外延层
  • 5个离子注入
  • 4个电流
  • 4个电路
  • 4个阴极
  • 4个势垒
  • 4个热阻
  • 4个热阻测试
  • 4个肖特基
  • 3个氮化硅

机构

  • 7个中国电子科技...
  • 6个中国电子科技...

传媒

  • 6个微处理机

地区

  • 7个北京市
共 8 条 记 录，以下是 1-8
刘旸
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：势垒 分立器件 硅片 并联 编程
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐冬
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：势垒 金属 肖特基二极管 NICR 分立器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孔明
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：集成电路 二极管 抗辐照加固 抗辐照 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马洪江
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：二极管 阻挡层 湿法刻蚀 湿法 氧化层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林洪春
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：MOS器件 分压 二极管 硅片 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
白羽
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：管芯 结壳 热阻测试 热阻 电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐衡
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：管芯 结壳 热阻测试 热阻 电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马洪江
供职机构：中国电子科技集团公司第四十七研究所
研究主题：SCHOTTKY二极管 软恢复 MEMS器件 干法刻蚀 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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