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马洪江

作品数：5 被引量：4H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十七研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 3个自动化与计算...

主题

  • 4个刻蚀
  • 2个电路
  • 2个漂移区
  • 2个自对准
  • 2个离子刻蚀
  • 2个集成电路
  • 2个高压CMOS
  • 2个光刻
  • 2个二极管
  • 2个半导体
  • 2个CMOS电路
  • 2个掺杂
  • 2个场区
  • 1个单晶
  • 1个单晶硅
  • 1个等离子刻蚀
  • 1个电离辐射效应
  • 1个电路工艺
  • 1个电路性能
  • 1个钝化

机构

  • 5个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个东北微电子研...

资助

  • 1个国家自然科学...
  • 1个吉林省科技发...
  • 1个国家部委预研...
  • 1个吉林省青年科...

传媒

  • 5个微处理机
  • 1个半导体技术
  • 1个中国光学

地区

  • 2个北京市
共 5 条 记 录，以下是 1-5
蔡震
供职机构：中国电子科技集团公司第四十七研究所
研究主题：SCHOTTKY二极管 软恢复 AGV 干法刻蚀 多晶硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘昕阳
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：二极管 阻挡层 湿法刻蚀 湿法 MCR
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋玲玲
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：延迟线 分束器 二氧化硅 交叉型 线阵列
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙德玉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十七研究所
研究主题：MEMS器件 光刻胶 刻蚀 聚酰亚胺 钝化工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭常厚
供职机构：东北微电子研究所
研究主题：场区 CMOS电路 大规模集成电路 半导体加工 选择比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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