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杨昊鹍

作品数:5 被引量:14H指数:3
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金:国家中长期科技发展规划重大专项国家科技重大专项更多>>
相关领域:电子电信更多>>

领域

  • 13个电子电信
  • 4个金属学及工艺
  • 3个化学工程
  • 3个一般工业技术
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  • 2个哲学宗教
  • 2个电气工程
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  • 2个环境科学与工...
  • 2个文化科学
  • 1个冶金工程
  • 1个动力工程及工...
  • 1个建筑科学
  • 1个交通运输工程

主题

  • 12个化学机械抛光
  • 12个机械抛光
  • 12个CMP
  • 11个抛光
  • 11个抛光液
  • 9个去除速率
  • 9个磨料
  • 9个活性剂
  • 9个碱性条件
  • 9个衬底
  • 8个硅衬底
  • 5个氧化铈
  • 4个单晶
  • 4个单因素
  • 4个低K材料
  • 4个低K介质
  • 4个低K介质材料
  • 4个电路
  • 4个电偶
  • 4个电偶腐蚀

机构

  • 13个河北工业大学
  • 1个河北工学院
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中国人民解放...
  • 1个中国人民政治...
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 11个国家中长期科...
  • 8个国家科技重大...
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  • 8个河北省自然科...
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  • 1个博士后科研启...
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  • 1个河北省科技厅...

传媒

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  • 4个稀有金属
  • 3个人工晶体学报
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  • 1个粉末冶金技术
  • 1个光电子.激光
  • 1个技术与市场
  • 1个电镀与精饰

地区

  • 13个天津市
13 条 记 录,以下是 1-10
刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙鸣
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张宏远
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 抛光速率 化学机械平坦化 磨料 铜互连线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于江勇
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 混合磨料 化学机械抛光 LED 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈蕊
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 铜布线 抛光液 化学机械抛光 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪姣
供职机构:河北工业大学
研究主题:BTA 螯合剂 CMP 接触角 TA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏显召
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 化学机械抛光 混合磨料 LED 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田园
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP AL合金 碱性条件 活性剂 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李英的
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 混合磨料 化学机械抛光 LED 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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