上海市科委纳米专项基金(0852nm06600)
- 作品数:8 被引量:10H指数:2
- 相关作者:杨春生刘景全芮岳峰王亚军王庆康更多>>
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- 相关领域:自动化与计算机技术电子电信理学一般工业技术更多>>
- 用于视觉假体的柔性生物微电极阵列的设计和制作被引量:3
- 2009年
- 提出了一种用于视网膜假体的基于Parylene的柔性微电极阵列的设计和制作。微电极阵列为5×5,通过光刻胶热熔回流技术形成的电极点为半球形凸起,底部直径为60μm,高度大约为24μm。整个电极具有很好的柔韧性,能够更好的适应视网膜表面轮廓,提高刺激效果。同时,电极具有很好的透明性,便于手术时电极的植入和手术后对生物组织的观察。
- 王亚军杨春生刘景全沈修成郭忠元
- 关键词:PARYLENE微电极阵列MEMS
- 基于Parylene的球形凸起微电极阵列的研究
- 神经工程在揭示神经系统的工作机理以及神经疾病的治疗和康复等方面具有重要意义。微电极阵列是神经系统与外界电子电路的接口,它的性能决定了整个神经系统的信号采集和刺激的效果。本文提出了一种基于气相沉积Parylene薄膜的球形...
- 芮岳峰杨春生王亚军刘景全
- 关键词:MEMSPARYLENE微电极阵列
- 文献传递
- 聚合物Parylene C薄膜的反应离子刻蚀研究
- 2008年
- 首先简要介绍了聚合物Parylene,并以Parylene C薄膜为原料,进行反应离子刻蚀,着重研究了功率和工作气压对刻蚀速率的影响,并给出了优化的刻蚀工艺参数。结果表明,刻蚀速率随功率增加而增大,当功率为80 W时,刻蚀速率达到0.44μm/min,适当增大功率有利于各向异性刻蚀。刻蚀速率在一定范围内随气压增大而增大,工作压力为10.67 Pa时,刻蚀速率达到0.47μm/min;当气压超过10.67 Pa后,刻蚀速率基本保持不变。
- 王亚军刘景全沈修成杨春生郭中元芮岳峰
- 关键词:微流体系统反应离子刻蚀
- 基于Parylene的柔性生物微电极阵列的制作被引量:5
- 2011年
- 在神经工程中,微电极阵列是神经系统与外界电子电路的接口,其性能决定了整个神经系统的信号采集和刺激的效果.提出了一种基于Parylene的半球形柔性生物微电极阵列.在微电极的制备过程中,使用了光刻胶热熔技术和MEMS技术.半球形形貌的微电极有利于形成和神经组织的良好接触,并且相比同底面积的平板电极,表面积增加为2倍,这有利于降低界面阻抗,降低系统功耗.使用化学气相沉积法沉积Parylene C薄膜作为微电极的封装材料,它具有良好的生物相容性和柔性,可以降低对神经组织的损害.实验结果表明,与此半球形微电极底面积大1.3倍的平板电极相比,半球形微电极的界面阻抗下降了55%,并且界面阻抗随着微电极顶部开口直径的变化而变化.使用Comsol有限元软件进行了电极/组织液液面流出电流密度仿真,仿真结果也表明,微电极的流出电流密度也随着微电极顶部开口直径的变化而变化,因此可以通过调整微电极顶部开口直径来调节电流密度,从而满足不同部位需要不同电流密度刺激的要求.
- 芮岳峰王亚军刘景全杨春生
- 关键词:MEMSPARYLENE微电极阵列
- 基于PDMS的芯片电极多层互连系统的研究
- 2011年
- 本文提出了一种基于PDMS(聚二甲基硅氧烷)基底的芯片电极多层互连方法,应用MEMS(微电子机械系统)技术将芯片和电极进行了芯片级的互连,系统集成度高,尺寸小。相比传统的单层互连方法,在相同面积上互连电极数多。并且使用PDMS作为基底材料,大大降低了传统的以硅为基底的加工成本。制备的芯片电极多层互连系统芯片和电极互连数量多,各层绝缘层为绝缘性能良好的柔性Parylene(聚对亚苯基二甲基)薄膜,为柔性多层高密度线路互连技术提供了一种新方法。
- 芮岳峰刘景全杨春生何庆李以贵
- 关键词:植入式PARYLENEMEMS互连PDMS
- 表面等离子体透射增强提高光刻分辨率的模拟
- 2010年
- 讨论了表面等离子体透射增强现象在提高分辨率上的应用,数值模拟结果显示采用这种方法光刻的分辨率可以达到32nm。首先用FDTD法模拟了一维周期光栅结构的电场场强的分布,光栅模版具有三角形的脊,整个模版覆盖了一层Ag,然后讨论了三角形底角角度变化对透射率和分辨率的影响。当角度在57°~64°之间变化时,得出三角形脊部有透射增强现象产生,最大透射振幅是入射光的4.2倍,分辨率为(30±5)nm。因为凹槽部分透射光强度很小,因此具有很好的分辨率。通过对比周期和非周期边界条件模拟,三角形脊的形状是产生透射增强现象的原因。
- 朱明轩李海华王庆康
- 关键词:表面等离子体激元纳米光刻FDTD方法光刻分辨率光栅
- 新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究被引量:2
- 2010年
- 为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完成。实验得到光刻胶掩膜膜厚为1.21μm,结构尺寸深246nm,周期937.5nm。实验结果表明,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶依然表现出高可靠性和高图形转移分辨率,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗粘修饰的工艺步骤。
- 李中杰林宏姜学松王庆康印杰
- 关键词:紫外纳米压印
- 纳米压印中残余胶刻蚀工艺研究
- 2010年
- 压印光刻在图形转移之后,需要去除残留在凹槽底部的胶。采用RIE工艺对紫外压印胶的刻蚀速率进行了研究。结果表明,随着气压或气体流量增大,刻蚀速率均会先增加,达到一定值后又开始下降;在刻蚀气体中加入SF_6后,会减少钻蚀,但刻蚀速率会有少许下降;而在刻蚀气体中加入少量SF_6且压强及流量较大时,各部分的刻蚀速率一致性较好。由此得到了一个优化后的刻蚀条件,反应气体:O_2+SF_6,气体流量分别为40 cm^3/min和5 cm^3/min,压强9.31 Pa,RF功率20 W,此时刻胶速率可稳定在0.8μm/min左右,且均匀性较好。
- 黄康李海华王庆康
- 关键词:纳米压印反应离子刻蚀正交试验
- 真空沉积掺杂制备PARYLENE功能薄膜研究
- 2011年
- 本文介绍了高分子材料PARYLENE的真空沉积机理及其优越性和不足。提出了一种在PARYLENE真空沉积过程中引入机械掺杂制备具有特定功能的PARYLENE高分子薄膜的方法并给出了掺杂试验设备设计方案。最后提出了影响机械粉体掺杂效果的几个因素。
- 何庆刘景全杨春生李以贵芮岳峰
- 关键词:PARYLENE真空沉积纳米粉体